[發明專利]化學強化玻璃的制造方法無效
| 申請號: | 201210093106.1 | 申請日: | 2012-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN102730953A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發明(設計)人: | 大原盛輝;小野和孝;石丸政行;大須賀卓生 | 申請(專利權)人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | C03B27/03 | 分類號: | C03B27/03;C03C3/087;G01N21/45 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高培培;車文 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 強化 玻璃 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及化學強化玻璃的制造方法。
背景技術
近年來,在手機、PDA等移動顯示器及大型的液晶電視等平板顯示器中,以保護為目的,多使用提高了強度的化學強化玻璃(參照日本特開昭57-205343號公報、日本特開平9-236792號公報及日本特開2009-84076號公報)。對于表示化學強化玻璃的特性,通常將表面壓縮應力和壓縮應力層的深度作為指標來使用。
化學強化玻璃將含有Na離子(鈉離子)的玻璃浸漬于含有K離子(鉀離子)的熔融鹽等來制造。通過對玻璃進行化學強化,由于將玻璃表層的Na離子置換為原子量比Na離子大的K離子,電子的移動變得困難,因此,被化學強化了的區域的光的折射率上升。在玻璃的表層已進行了離子交換的化學強化玻璃中,光在表層的折射率上升,隨著進入內部,接近整體的玻璃的折射率。
從玻璃的表面傾斜入射的光具有向折射率更高的區域傳播的性質,由玻璃表面反射的光和在玻璃內部傳播的光發生干涉,作為條紋被觀測到。通過在垂直方向和水平方向這兩個偏光方向觀測該干涉條紋的位置,使用光彈性常數進行應力換算,能夠求出表面壓縮應力的值。另外,能夠根據干涉條紋數求出壓縮應力層的深度(Optics?and?Lasers?in?Engineering?4(1983),p.25-38)。使用了該原理的表面應力儀FSM-6000由折原制作所產品化,在玻璃的應力測定中被廣泛使用。
但是,在利用表面應力儀對化學強化后的玻璃測定表面壓縮應力及壓縮應力層的深度時,發生干涉條紋的模糊、幻像,由此,存在錯誤觀測干涉條紋的位置、寬度或根數,結果錯誤測定表面壓縮應力及壓縮應力層的深度的問題。
發明內容
本發明人發現這種表面壓縮應力及壓縮應力層的深度的測定的不穩定性是由玻璃的均質度即折射率的異常導致的。另外,發現通過對沒有折射率分布的玻璃進行化學強化,能夠穩定且準確地對得到的化學強化玻璃測定表面壓縮應力及壓縮應力層的深度。
即,本發明提供以下1~4項的發明。
1.一種化學強化玻璃的制造方法,其中,包括進行抽樣檢查,該抽樣檢查包含玻璃的折射率分布的測定。
2.如上述1所述的化學強化玻璃的制造方法,其中,還包括對抽樣檢查中的折射率分布的測定的結果是沒有折射率分布的玻璃進行化學強化。
3.如上述1或2所述的化學強化玻璃的制造方法,其中,利用雙光束干涉儀測定折射率分布。
4.如上述1~3中任一項所述的化學強化玻璃的制造方法,其中,還包括非破壞性地測定化學強化玻璃的表面壓縮應力及壓縮應力層的深度。
根據本發明的制造方法,通過進行測定玻璃的折射率分布的抽樣檢查,能夠將在玻璃的折射率分布中沒有異常的批量的玻璃供于化學強化。通過將在玻璃的折射率分布中沒有異常的批量的玻璃供于化學強化,能夠穩定且準確地對得到的化學強化玻璃測定表面壓縮應力及壓縮應力層的深度,能夠實現化學強化玻璃的品質的穩定、均質化及提高。
附圖說明
圖1是表示供雙光束干涉儀的折射率分布測定的玻璃的試樣的制造方法;
圖2(a)表示正常品的表面應力儀測定的圖像,圖2(b)表示異常品的表面應力儀測定的圖像;
圖3(a)~(c)表示異常品的折射率分布測定的結果,圖3(d)及(e)表示正常品的折射率分布測定的結果。
具體實施方式
下面,對本發明進行詳細說明,但是本發明不限于此。
在本發明的制造方法中,除了包含抽樣檢查工序之外,能夠利用現有的方法制造化學強化玻璃,其中所述抽樣檢查工序包含對玻璃的折射率分布進行測定的情況。
〔制造化學強化前的玻璃的方法〕
在本發明的制造方法中,供于化學強化的玻璃可以按照如下方式制造:將所希望的玻璃原料連續投入熔融爐,優選將玻璃原料在1500~1600℃下加熱熔融,澄清之后,向成形裝置供給,之后使熔融玻璃成形為板狀,進行緩冷。通過本發明的制造方法制造的玻璃的組成沒有特別限定。
在玻璃基板的成形中可以采用各種方法。例如,可以采用下拉法(例如,溢流下拉法、流孔下引法及再曳引法等)、浮法、壓延法及擠壓法等各種成形方法。
本發明的制造方法根據需要也可以包含對通過上述制造方法制造出的玻璃一邊供給研磨漿液一邊用研磨墊進行研磨的研磨工序。該研磨漿液可以使用含有研磨材料和水的研磨漿液。作為該研磨材料優選氧化鈰及二氧化硅。
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