[發(fā)明專利]氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210092934.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102760807A | 公開(公告)日: | 2012-10-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 駒田聰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L33/06 | 分類號(hào): | H01L33/06;H01L33/32 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 呂曉章 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化物 半導(dǎo)體 發(fā)光二極管 元件 | ||
1.一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,包括:
n型氮化物半導(dǎo)體層;
p型氮化物半導(dǎo)體層;和
設(shè)置在所述n型氮化物半導(dǎo)體層和p型氮化物半導(dǎo)體層之間的有源層,
所述有源層具有包含量子阱層和與所述p型氮化物半導(dǎo)體層相連的阻擋層的多重量子阱結(jié)構(gòu),
所述阻擋層由AlGaN層和GaN層的二層結(jié)構(gòu)構(gòu)成,
所述阻擋層的所述AlGaN層與所述量子阱層的所述p型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)相連,
所述AlGaN層中的Al原子的含量為10原子%以上。
2.如權(quán)利要求1所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述AlGaN層的厚度為1nm以上4nm以下。
3.一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,包括:
n型氮化物半導(dǎo)體層;
p型氮化物半導(dǎo)體層;和
設(shè)置在所述n型氮化物半導(dǎo)體層和所述p型氮化物半導(dǎo)體層之間的有源層,
所述有源層具有包含量子阱層、包含與量子阱層的n型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)相連的InGaN層的第1阻擋層、以及包含與量子阱層的p型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)相連的AlGaN的第2阻擋層的多重量子阱結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述第1阻擋層的所述InGaN層的厚度為1nm以上4nm以下。
5.如權(quán)利要求3所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述量子阱層包含In,
所述第1阻擋層的所述InGaN層中的In原子的含量少于所述量子阱層中的In原子的含量。
6.如權(quán)利要求5所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述第1阻擋層的所述InGaN層中的所述In原子的含量為所述量子阱層中的所述In原子的含量的0.3倍以上0.7倍以下。
7.如權(quán)利要求3所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述第2阻擋層的所述AlGaN層的厚度為1nm以上4nm以下。
8.一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,包括:
n型氮化物半導(dǎo)體層;
p型氮化物半導(dǎo)體層;和
設(shè)置在所述n型氮化物半導(dǎo)體層和所述p型氮化物半導(dǎo)體層之間的有源層,
所述有源層具有包含量子阱層、以及與p型氮化物半導(dǎo)體層相連的阻擋層的多重量子阱結(jié)構(gòu),
所述阻擋層由AlGaN層和GaN的二層結(jié)構(gòu)構(gòu)成,
所述阻擋層的所述AlGaN層與所述量子阱層的所述p型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)相連,
所述AlGaN層包含Mg和In中的至少一種。
9.如權(quán)利要求8所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述AlGaN層的Mg濃度為1×1018/cm3以上1×1020/cm3以下。
10.如權(quán)利要求8所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述AlGaN層的In原子的含量為0.01原子%以上5原子%以下。
11.如權(quán)利要求8所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述AlGaN層的厚度為1nm以上4nm以下。
12.一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,包括:
n型氮化物半導(dǎo)體層;
p型氮化物半導(dǎo)體層;和
設(shè)置在所述n型氮化物半導(dǎo)體層和所述p型氮化物半導(dǎo)體層之間的有源層,
所述有源層具有包含量子阱層、由GaN層的單層構(gòu)成的第1阻擋層、以及由AlGaN層和GaN層的二層結(jié)構(gòu)構(gòu)成的第2阻擋層的多重量子阱結(jié)構(gòu),
所述量子阱層包含:在所述量子阱層中配置在最靠近所述n型氮化物半導(dǎo)體層的位置的第1量子阱層;和在所述量子阱層中配置在最靠近所述p型氮化物半導(dǎo)體層的位置的第2量子阱層,
在所述第1量子阱層的所述p型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)以及所述第2量子阱層的所述p型氮化物半導(dǎo)體層一側(cè)分別設(shè)置所述第1阻擋層,與所述第2阻擋層相連地形成所述第1量子阱層和所述第2量子阱層以外的所述量子阱層。
13.如權(quán)利要求1所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述多重量子阱結(jié)構(gòu)的周期數(shù)為6以上20以下。
14.如權(quán)利要求1所述的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管元件,
所述n型氮化物半導(dǎo)體層、所述p型氮化物半導(dǎo)體層、和所述有源層分別以c面為主面。
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