[發(fā)明專(zhuān)利]液晶顯示面板的制造方法及其制造設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210090661.9 | 申請(qǐng)日: | 2004-09-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102621747A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 甲斐田一彌;泉明范 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1341 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1341;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 張?chǎng)?/td> |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 面板 制造 方法 及其 設(shè)備 | ||
本發(fā)明申請(qǐng)是國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/JP2004/012727,國(guó)際申請(qǐng)日為2004年9月2日,進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的申請(qǐng)?zhí)枮?00480027170.3,名稱(chēng)為“液晶顯示面板的制造方法及其制造設(shè)備”的發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示面板的制造方法和液晶顯示面板的制造設(shè)備。更具體地,涉及采用液晶滴注方式進(jìn)行制造的液晶顯示面板的制造方法和液晶顯示面板的制造設(shè)備。
背景技術(shù)
液晶顯示面板由兩塊背靠的基板組成,在兩塊背靠的基板之間封裝有液晶。圖7是多種液晶顯示面板的其中一種范例性彩色液晶顯示面板的示意性截面圖。液晶30密封在TFT(薄膜晶體管)基板1和CF(濾色)基板5之間。在TFT基板1的主表面上,掃描線驅(qū)動(dòng)電路2被形成并連接于外部驅(qū)動(dòng)IC(未圖示)。在掃描線驅(qū)動(dòng)電路2的主表面上形成像素電極層3。在像素電極層3中,除了像素電極之外,還形成有TFT。在像素電極層3的主表面上,形成有配向膜4。
在背靠的TFT基板1的CF基板5的主表面上形成濾色器6。濾色器6具有三種色調(diào),紅、綠和藍(lán)。濾色器6的主表面形成有公共電極7。公共電極7的主表面形成有配向膜8。液晶30被注入并夾在配向膜4和配向膜8之間,并且密封劑31被設(shè)置在液晶30的旁邊。即,液晶30可由配向膜4、8和密封劑31環(huán)繞密封。通過(guò)介于它們之間的取間隔器9使得配向膜4、8之間保持一定的空間。因此,液晶30直接接觸配向膜4、8和密封劑31。通過(guò)密封劑31將兩塊基板彼此牢固地粘合在一起。在本說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)中,諸如TFT基板的單塊基板以及其中形成有像素電極層、配向膜等單塊基板均被簡(jiǎn)單地稱(chēng)為“基板”。
在液晶顯示面板的制造方法中,存在一種被稱(chēng)為液晶滴注方式的制造方法。圖8示出液晶滴注方式的步驟。首先,將濾色器和像素電極層分別形成于兩塊基板上,此后將配向膜形成在各基板上。接著,將密封劑形成于分別形成在TFT基板和CF基板上的各個(gè)配向膜或其中一個(gè)配向膜的主表面上。接著,將所需量的液晶滴至基板配向膜中的一個(gè)的主表面。圖9是按照液晶滴注方式而將兩塊基板粘合在一起的剖面示意性圖。在圖9中,除了配向膜4、8,諸如取間隔器和濾色器等部件均未圖示。在圖9所示的基板粘合過(guò)程中,密封劑31涂覆于形成在CF基板5的配向膜8的主表面上,而所需量的液晶30被滴至形成在另一TFT基板1的配向?qū)?的主表面上。在基板粘合過(guò)程中,如箭頭50所示,兩基板的各主表面保持彼此平行并彼此緊貼以牢固地粘合。兩塊基板的粘合是在減壓氛圍下進(jìn)行的。在基板上形成配向膜后的密封劑配置和液晶滴注是在放氣氛圍下進(jìn)行的,僅基板的粘合是在減壓氛圍下進(jìn)行的。
配向膜由多孔材料制成。并因此它們的表面很容易吸收水氣。如果水氣混入液晶,則會(huì)產(chǎn)生電壓保持率下降并且圖象顯示不均勻或表現(xiàn)出斑點(diǎn)的問(wèn)題。為了防止因?yàn)楸慌湎蚰さ鹊谋砻嫖盏乃畾馑鸬乃畾饣烊胍壕?,該制造工序包括將基板配置在減壓氛圍下持續(xù)一定時(shí)間的步驟,該步驟稱(chēng)為除氣步驟。為了實(shí)現(xiàn)除氣步驟,需要采用真空腔、真空泵等以減少整個(gè)基板周?chē)膲毫Α榱顺晒Φ卦跍p壓氛圍中執(zhí)行從密封劑的配置到基板粘合的步驟,需要非常大尺寸的設(shè)備。此外,如果在配置密封劑前執(zhí)行除氣步驟,則除氣步驟后的基板就要從配置密封劑開(kāi)始直到粘合基板都保存在放氣氛圍下。在這段時(shí)間內(nèi),空氣中的水氣可能會(huì)再次被配向膜的主表面吸收。因此,要在將兩塊基板彼此粘合前的瞬間執(zhí)行除氣步驟。諸如配置密封劑、液晶滴注、產(chǎn)品運(yùn)輸?shù)绕渌襟E一般在放氣氛圍下進(jìn)行。
2003-107481號(hào)日本專(zhuān)利公報(bào)公開(kāi)一種液晶顯示面板的制造方法,其中在涂覆密封劑前配向膜吸收的水分被設(shè)為小于4wt%。而配向膜成形后的各步驟并至少直到粘合完成為止是在濕度小于40%的環(huán)境下進(jìn)行的。在該制造方法中,例如在形成配向膜后,保存或裝配是在濕度小于40%的環(huán)境下進(jìn)行的,并且保存或裝配是在用干空氣清洗基板的同時(shí)進(jìn)行的。將密封劑配置到基板表面的步驟是在干空氣氛圍下進(jìn)行的,例如,滴下液晶并粘合基板的步驟是在真空氛圍下進(jìn)行的。根據(jù)這種方法,可防止在保存或安裝基板時(shí)配向膜吸收水氣,并因此能制造出不包括殘像的液晶顯示面板。
2001-305545號(hào)日本專(zhuān)利公布公開(kāi)了一種在研磨工序后立刻通過(guò)使配向膜非活性化而防止水氣或吸附性氣體被配向膜表面吸收的制造方法。根據(jù)這種方法,在研磨工序后,馬上在至少為80℃并小于100℃的溫度下持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)間對(duì)配向膜表面進(jìn)行熱處理,由此使配向膜表面的極性失去活性。從而,可防止水氣或吸附性氣體被配向膜表面吸收,由此可防止顯示中的各種不均勻的情況。
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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