[發明專利]一種聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料及其制備方法

在審

• 申請號: 201210090373.3
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN103360678A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 姚寅芳
• 申請（專利權）人: 上海杰事杰新材料（集團）股份有限公司
• 主分類號: C08L23/12
• 分類號: C08L23/12;C08L51/06;C08K9/04;C08K3/34;C08K3/04;C08J3/22;C09C1/42;C09C3/08;C08F255/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 吳林松

1.一種聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：該復合材料是由包含以下重量份的組分制成：

聚丙烯??????????100份，

有機改性蒙脫土??1～10份，

馬來酸酐????????0.1～1份，

引發劑??????????0.01～0.1份，

石墨????????????1～12份，

抗氧劑??????????0.01～1份，

潤滑劑??????????1～10份。

2.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的聚丙烯為均聚聚丙烯，等規度為70～95％，分子量為15萬～30萬。

3.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的馬來酸酐與引發劑的重量份之比為10∶1。

4.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的引發劑選自叔丁基過氧化異丙苯、二叔丁基過氧化物、過氧化二異丙苯或2，5-二甲基-2，5-二叔丁基過氧化己烷中的一種或一種以上。

5.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的石墨為天然鱗片石墨，粒徑為450～600微米，含碳量大于99％。

6.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的抗氧劑選自2，6-三級丁基-4-甲基苯酚、二苯胺、3，5-三級丁基-4-羥基苯基硫醚、對苯二胺或二氫喹啉中的一種或一種以上。

7.根據權利要求1所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料，其特征在于：所述的潤滑劑選自硬脂酸、硬脂酸鈣、硬脂酸鋅、聚乙烯蠟、聚丙烯蠟或硬脂酸鎂中的一種或一種以上。

8.權利要求1至7任一所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料的制備方法，其特征在于：該方法包含以下步驟：

將100份聚丙烯中的5～40份聚丙烯與1～10份有機改性蒙脫土、0.1～1份馬來酸酐和0.01～0.1份引發劑混合5-20min，用雙螺桿擠出機擠出造粒，擠出溫度為190～220℃，得到含有有機蒙脫土的馬來酸酐接枝聚丙烯母粒，備用；

再將100份聚丙烯中剩余的聚丙烯與1～10份潤滑劑、0.01～1份抗氧劑、上述步驟所得的母粒和1～12份石墨混合5-20min，用雙螺桿擠出機擠出，擠出溫度為200～230℃，制得聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料。

9.根據權利要求8所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的有機改性蒙脫土是用有機處理劑對蒙脫土進行改性，處理方法如下：將蒙脫土與蒸餾水配制成5％的懸浮液，加入有機處理劑，在80℃下攪拌反應2h，過濾，用蒸餾水洗滌5次，真空干燥至恒量，研磨，過200目篩，得到有機改性蒙脫土，有機處理劑殘存在蒙脫土中的含量為1.5～9％。

10.根據權利要求9所述的聚丙烯/蒙脫土/石墨納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述的蒙脫土為鈉基蒙脫土，層間距為1.2～3.7nm；所述的有機處理劑選自十六烷基三甲基溴化銨、十六烷基三甲基氯化銨、十八烷基三甲基溴化銨、十八烷基三甲基氯化銨、十二烷基三甲基溴化銨或十二烷基二甲基乙內銨鹽中的一種或一種以上。