[發(fā)明專利]發(fā)光二極管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210089098.3 | 申請日: | 2012-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN103367585A | 公開(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金元浩;李群慶;范守善 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/20 | 分類號: | H01L33/20;H01L33/24 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 | ||
1.一種發(fā)光二極管,包括:
一第一電極、一第一半導(dǎo)體層、一活性層、一第二半導(dǎo)體層以及一第二電極;
所述第一電極、第一半導(dǎo)體層、活性層及第二半導(dǎo)體層依次層疊設(shè)置,且所述第一電極與所述第一半導(dǎo)體層電連接;所述第二電極與該第二半導(dǎo)體層電連接;所述第二半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離活性層的表面為所述發(fā)光二極管的出光面;
其特征在于,所述第二半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離活性層的表面具有多個第一三維納米結(jié)構(gòu),該第一三維納米結(jié)構(gòu)為間隔設(shè)置的條形凸起結(jié)構(gòu),該條形凸起結(jié)構(gòu)的橫截面為弓形。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述第一三維納米結(jié)構(gòu)以直線、折線或曲線并排延伸。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述第一三維納米結(jié)構(gòu)按照等間距排布、同心圓環(huán)排布或同心回形排布。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述第一三維納米結(jié)構(gòu)的高度為100納米~500納米;所述第一三維納米結(jié)構(gòu)的寬度為200納米~1000納米。
5.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,相鄰的兩個第一三維納米結(jié)構(gòu)之間的距離為10納米~1000納米。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述第一三維納米結(jié)構(gòu)的高度為150納米~200納米;所述第一三維納米結(jié)構(gòu)的寬度為300納米~400納米;且相鄰的兩個第一三維納米結(jié)構(gòu)之間的距離為100納米~200納米。
7.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述條形凸起結(jié)構(gòu)的橫截面為半圓形。
8.如權(quán)利要求7所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述半圓形的半徑為150納米~200納米。
9.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述第一半導(dǎo)體層靠近活性層的表面進(jìn)一步包括多個第二三維納米結(jié)構(gòu),所述第二三維納米結(jié)構(gòu)為條形凸起結(jié)構(gòu)、點狀凸起結(jié)構(gòu)或條形凸起結(jié)構(gòu)與點狀凸起結(jié)構(gòu)的組合。
10.如權(quán)利要求9所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述活性層與所述第一半導(dǎo)體層接觸的表面形成一第三三維納米結(jié)構(gòu),所述第三三維納米結(jié)構(gòu)與所述第二三維納米結(jié)構(gòu)相配合。
11.如權(quán)利要求9所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述活性層靠近第二半導(dǎo)體層的表面形成一平面結(jié)構(gòu)。
12.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,進(jìn)一步包括一反射層,該反射層設(shè)置于所述第一半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離活性層的表面。
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