[發明專利]基于微光學陣列元件的二維位移測量裝置有效
| 申請號： | 201210088617.4 | 申請日： | 2012-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN102607428A | 公開（公告）日： | 2012-07-25 |
| 發明（設計）人： | 盧振武;劉華;王堯;孫強 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G01B11/02 | 分類號： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標代理事務所 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130033 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 微光 陣列 元件 二維 位移 測量 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.基于微光學陣列元件的二維位移測量裝置，該裝置包括激光器(1)、擴束鏡(2)、反射鏡(3)、二維參考微光學陣列元件(4)、二維測量微光學陣列元件(5)、聚焦透鏡(7)和二維面陣探測器(8)；其特征是，激光器(1)發出的激光光束經擴束鏡(2)和反射鏡(3)后平行入射至二維參考微光學陣列元件(4)，在所述二維參考微光學陣列元件(4)的焦平面處會聚成點光源，點光源發出的光束經二維測量微光學陣列元件(5)平行入射至聚焦透鏡(7)，經聚焦透鏡(7)出射的光束在二維面陣探測器(8)上成像。
2.根據權利要求1所述的基于微光學陣列元件的二維位移測量裝置，其特征在于，還包括二維位移平臺(6)，所述二維測量微光學陣列元件(5)固定在二維位移平臺(6)上，隨二維位移平臺(6)進行運動。
3.根據權利要求1所述的基于微光學陣列元件的二維位移測量裝置，其特征在于，二維參考微光學陣列元件(4)和二維測量微光學陣列元件(5)由多個微結構單體(9)密接組成，每個微結構單體(9)為平凸透鏡，所述平凸透鏡的前表面(10)為球面，平凸透鏡的后表面(11)為非球面。
4.根據權利要求3所述的基于微光學陣列元件的二維位移測量裝置，其特征在于，所述的多個微結構單體(9)為一體結構或者相互獨立的結構。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，未經中國科學院長春光學精密機械與物理研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210088617.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
