[發明專利]復合物、取向材料、取向膜以及制備方法和應用無效
| 申請號: | 201210088514.8 | 申請日: | 2012-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN102659627A | 公開(公告)日: | 2012-09-12 |
| 發明(設計)人: | 李會 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C07C255/54 | 分類號: | C07C255/54;C07C253/30;C09K19/56;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭紅麗 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復合物 取向 材料 以及 制備 方法 應用 | ||
技術領域
本發明涉及一種復合物、取向材料以及由該取向材料形成的取向膜,還涉及該取向膜的制備方法和應用。
背景技術
在液晶面板的制作過程中,通常利用均一排布的取向膜實現對液晶分子的定向,而液晶定向的均一性直接影響著顯示器的品質。針對取向膜的取向技術,目前,工業上采用傳統的摩擦取向技術和近年來發展起來的非摩擦取向技術。其中,摩擦取向技術是在液晶面板的制作工藝中利用高速旋轉的摩擦輥摩擦形成于基板表面的取向膜,從而使取向膜分子沿摩擦方向均一定向排列。摩擦取向技術工藝簡單,易于工業化生產。但是,同時也存在以下缺點:在摩擦過程中產生大量的灰塵微粒,對取向膜和器件都會產生不良影響,并且需要后續工藝進行處理,增加了工藝時間和成本;在摩擦過程中產生靜電,對TFT-LCD的晶體管會造成擊穿;應用于大面積基板時,難以控制摩擦的均勻性等。目前常用的非摩擦取向技術主要是光控取向技術。光控取向技術可以避免由于靜電、灰塵所造成的污染,并且可以改善顯示器件的視角問題。
已知有一種液晶顯示設備的取向層,如圖1所示,該取向層由已聚合的反應性液晶元形成,該已聚合的反應性液晶元包括液晶元、在該液晶元的端部處的柔性間隔物,以及在該柔性間隔物的端部處的光反應端基。并且還已知一種制造取向層的方法,該方法包括:在基板上沉積取向材料,該取向材料包括上述反應性液晶元和光引發劑;向該取向材料施加沿預定方向的電場;以及向施加了電場的取向材料施加UV光,以使該光反應端基彼此聚合。但是,當照射UV光時,兩端光反應端基隨機發生聚合反應,不僅產生主反應的聚合物網絡結構,還將發生副反應,導致生成不必要的副產物。該副產物將會影響接觸到的液晶,從而導致取向效果不良。
發明內容
為了改善液晶面板的取向效果,本發明提供以下技術方案。
式(1)所示的復合物,
A-B-C-B’-D????(1)
其中,A表示光反應端基,所述光反應端基優選為丙烯酸酯基或丙烯酸甲酯基,B、B’相同或不同,表示單鍵或碳原子數為1~6的直鏈烷基,例如為己基,C表示烷氧基聯苯基、膽固醇的脂肪酸酯基、希夫堿基、偶氮苯基、二苯乙烯基、二苯乙炔基、聯苯基、聯三苯基,D表示無聚合活性的端基,例如為氰基。
一種取向材料,包含上述式(1)所示的復合物。
本發明還提供一種取向膜,其由上述取向材料形成。
上述取向膜的制備方法包括以下步驟:
在基板上涂布上述取向材料,形成取向膜,然后對所述取向膜施加電場,向所述取向膜照射紫外光。
其中,所述電場的電壓值例如為5~15V,所述紫外光的照射強度例如為0.05~3J/cm2。
本發明還提供利用上述取向膜制備得到的液晶面板,以及包括該液晶面板的顯示裝置。
另外,本發明還涉及上述取向材料在制作液晶面板中的應用
如圖2所示,本發明的取向材料的光反應端基發生聚合反應形成一層穩定的聚合物網絡結構,聚合物網絡結構可以在去掉電場作用后,使取向材料仍能保持設定的預傾角,所以,利用本發明的取向材料制備得到的液晶面板能夠有效地改善取向效果。
附圖說明
圖1是表示用于現有無摩擦取向技術中的取向材料及其反應原理的示意圖;
圖2是表示本發明的取向材料及其反應原理的示意圖;
圖3a~圖3c是表示液晶面板的制備過程的示意圖。符合說明
2.取向層
3.液晶層
4.無聚合活性的端基
5.光反應端基
5’.聚合物網絡結構
11.陣列基板
21.彩膜基板
具體實施方式
以下列舉具體實施例說明本發明的取向材料的制備方法,但本發明并不限于這些實施例。
實施例1
取向材料的制備
向500mL三口瓶中加入130mL無水乙醇與130mL蒸餾水,并向其中加入0.1mol?4-氰基-4′-羥基聯苯和0.2mol?1,6-二溴己烷。在攪拌狀態下水浴加熱回流。待全部溶解后,向其中緩慢滴加40mL氫氧化鉀(0.25mol)的乙醇水溶液(以體積比計,乙醇∶水=1∶1)。滴加結束后,繼續反應4小時。停止反應,趁熱抽濾,得白色固體,干燥后用1,2-二氯乙烷重結晶,得白色片狀晶體即4-氰基-4′-(6-溴己氧基)聯苯。
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