[發明專利]復合納米薄膜的制備儀

無效

• 申請號: 201210084094.6
• 申請日: 2012-03-26
• 公開（公告）號: CN102615015A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 賈國治;封彥舟
• 申請（專利權）人: 天津城市建設學院
• 主分類號: B05C3/10
• 分類號: B05C3/10
• 代理公司: 天津才智專利商標代理有限公司 12108
• 代理人: 呂志英

技術領域

本發明涉及一種納米薄膜制備儀器，特別是一種復合納米薄膜制備儀。?

背景技術

隨著納米科技的發展，高性能納米材料設計的實現，迫切的需要能完成高質量的納米薄膜和復合納米薄膜。目前國內的相關儀器制造商有：青島眾瑞智能儀器有限公司、北京恒奧德儀器儀表有限公司等公司。?

上述制造商生產的設備中，涉及的提拉設備只能完成納米材料的單次拉膜，而多層拉膜、復合拉膜必須要借助人工干預操作尚可完成，尤其是復合拉膜，需要不斷地的更換溶液、設置機器，工作量大，操作十分繁瑣，嚴重影響了拉膜的質量和性能的重復性。?

納米材料制備的一個關鍵問題是不能引入雜質，目前市場上的納米薄膜提拉機需要烘箱配合才能完成多層拉膜，在轉移過程中不可避免會引入灰塵雜質。另外，目前市場上的納米薄膜拉制機很難實現此類超晶格多層膜的制備，需要進行幾十乃至幾百次的提拉、換液、烘烤、降溫，幾乎是人工不可能完成的，這樣大大限制了高質量、多層膜的研制和實現。?

發明內容

針對現有技術中結構上的不足，本發明的目的是提供一種復合納米薄膜制備儀，能夠實現高度的自動化操作，平穩、快速地進行不同種類溶液的切換、多次提拉和烘烤的全自動全封閉實現。?

為實現上述目的，本發明采用的技術方案是提供一種復合納米薄膜制備儀，該設備包含封閉的外殼、支撐整個裝置的底板、支撐框架，在支撐框架內安裝的提拉樣品的裝置，加熱腔體，試劑選擇平臺，帶微處理器的控?制和通信電路板，其中：所述支撐框架固定在底板上，提拉樣品的裝置固定在支撐框架內的一側，加熱腔體固定在支撐框架另一側上方位置，試劑選擇平臺固定在加熱腔體下方的位置；同時帶微處理器的控制和通信電路板固定在底板上。?

本發明的效果是通過步進電機來驅動提拉裝置，對樣品進行提拉，以及通過加熱管、微控電路對溫度進行控制，同時可以通過旋轉平臺對反應溶液進行選擇。用戶通過PC機配套軟件對儀器微處理器進行控制，可以方便的對提拉次數，提拉速度、以及反應溶液的選擇進行控制，從而可以實現對復合納米多層薄膜制作過程進行全自動化的控制，大大降低了繁雜的人工操作和誤操作的可能性，該設備構結構簡單、緊湊，運行時可靠穩定，噪音小，大大改善了納米材料的制作工藝，并提高材料制備過程的可重復性。采用該納米材料制作裝置，使儀器運行平穩，噪音小，可實現提拉、烘烤、換液的自動化操作，大大提簡化了納米材料的制作流程，使其能夠高速高效準確地完成納米材料的制作過程，整個過程由PC機控制微處理器自動完成。該裝置可用于納米材料的研發、制作等方面。?

附圖說明

圖1為本發明的復合納米薄膜制備儀結構示意圖；?

圖2為圖1的左側視圖；?

圖3為圖1的右側視圖；?

圖4為本發明的復合納米薄膜制備儀電路部分原理框圖。?

圖中：?

1、上限位滑塊??2、絲杠??3、上限位置傳感器??4、提拉裝置滑塊?

5、下限位置傳感器??6、下限位滑塊??7、提拉裝置驅動電機?

8、水平支撐輪座??9、支撐框架??10、底板??11、試劑選擇臺驅動電機?

12、試劑選擇平臺支撐輪??13、試劑選擇平臺?

14、試劑選擇臺原點位置傳感器??15、燒杯座??16、樣品夾?

17、加熱管??18、加熱腔體??19、加熱腔內膽?

20、L形樣品夾支架??21、溫度傳感器??22、直線軸承?

具體實施方式

結合附圖及實施例對本發明的復合納米薄膜制備儀的結構加以說明。?

本發明的復合納米薄膜制備儀，該設備包含封閉的外殼、支撐整個裝置的底板10、支撐框架9，在支撐框架內安裝的提拉樣品的裝置，加熱腔體18，試劑選擇平臺13，帶微處理器的控制和通信電路板。?

所述支撐框架9固定在底板10上，提拉樣品的裝置固定在支撐框架9內的一側，加熱腔體18固定在支撐框架9另一側上方位置，試劑選擇平臺13固定在加熱腔體18下方的位置。同時帶微處理器的控制和通信電路板固定在底板10上。該電路板控制加熱管17的功率，同時控制試劑選擇平臺驅動電機11和提拉裝置的驅動電機7的運動，控制電路通過感應溫度傳感器21，上限定位傳感器3，下限定位傳感器5，試劑選擇臺原點傳感器14檢測機器的運行狀態，并與計算機通信，利用傳感器與軟件技術協調提拉裝置的運動，試劑選擇平臺的位置，加熱管的功率。?