[發(fā)明專利]具有保持器定位布置的成像設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210083972.2
• 申請日: 2012-03-27
• 公開（公告）號: CN102854771A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設計）人: 宗田真;戶松義也
• 申請（專利權）人: 兄弟工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03G15/01
• 分類號: G03G15/01;G03G21/16
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 黃剛;車文

1.一種成像設備，包括：

主框架；以及

保持器，所述保持器保持在預定的排列方向上排列的多個感光鼓，并且所述保持器能夠在與所述排列方向平行的容納方向上移動，以能夠容納在所述主框架中，所述保持器包括一對側板和一對突出部，每個側板位于每個感光鼓的每個軸向端部處，并且每個側板具有在所述容納方向上的上游端部，每個突出部從每塊側板的所述上游端部在所述軸向方向上向外突出；

其中所述主框架包括：

一對定位部，每個定位部被構造成從每個突出部的下方和在所述容納方向上的下游側與所述每個突出部接觸，用于相對于所述主框架定位所述保持器；以及

一對支撐部，所述一對支撐部位于所述一對定位部的在所述容納方向上的下游，并且所述一對支撐部被構造成支撐所述一對側板。

2.根據權利要求1所述的成像設備，其中所述主框架包括一對指定側壁，所述一對指定側壁由金屬制成，并且每個指定側壁從每塊側板在所述軸向方向上向外定位，每個定位部設置在每個指定側壁處。

3.根據權利要求2所述的成像設備，還包括曝光單元，所述曝光單元位于所述一對指定側壁之間，并構造成使所述多個感光鼓暴露于光；并且

其中每個指定側壁包括支撐所述曝光單元的主體部和從所述主體部朝所述感光鼓延伸的延伸部，每個定位部設置在每個延伸部處。

4.根據權利要求3所述的成像設備，其中所述主框架還包括一對另外的側壁，所述一對另外的側壁在所述軸向方向上彼此間隔開，并且所述一對另外的側壁由樹脂制成，每個指定側壁固定至每個另外的側壁，并且每個支撐部設置在每個另外的側壁處。

5.根據權利要求1所述的成像設備，其中所述一對突出部是由金屬制成的單軸的軸向端部。

6.根據權利要求1所述的成像設備，還包括朝所述容納方向上的下游側向下延伸的皮帶，所述保持器能夠沿著所述皮帶移動。

7.根據權利要求1所述的成像設備，其中所述定位部具有：第一表面，所述第一表面從下方與每個突出部接觸；和第二表面，所述第二表面朝所述容納方向上的下游側向下延伸，并且所述第二表面構造成從每個突出部的斜上方和下游側與所述每個突出部接觸。

8.一種成像設備，包括：

主框架；以及

保持器，所述保持器保持感光鼓，并且所述保持器能夠在容納方向上移動，以能夠容納在所述主框架中，所述保持器包括側板和突出部，所述側板位于所述感光鼓的軸向端部處，并且所述側板具有在所述容納方向上的上游端部，所述突出部從所述側板的所述上游端部在所述軸向方向上向外突出；

其中所述主框架包括：

定位部，所述定位部被構造成與所述突出部接觸，用于相對于所述主框架定位所述保持器；以及

支撐部，所述支撐部位于所述定位部的在所述容納方向上的下游，并且所述支撐部構造成支撐所述側板。