[發(fā)明專利]產(chǎn)生檢查對(duì)象的圖像數(shù)據(jù)的方法、處理裝置和X射線系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210082178.6
• 申請(qǐng)日: 2012-03-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102727234A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S.卡普勒;M.彼得西爾卡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門(mén)子公司
• 主分類號(hào): A61B6/03
• 分類號(hào): A61B6/03
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 謝強(qiáng)

1.一種用于基于檢查對(duì)象(O)的X射線投影數(shù)據(jù)(P)產(chǎn)生檢查對(duì)象(O)的圖像數(shù)據(jù)(BD)的方法，其中，在重建圖像數(shù)據(jù)(BD)之前，所述X射線投影數(shù)據(jù)(P)經(jīng)受基于散射測(cè)量值的散射校正，其中所述散射測(cè)量值在其用于散射校正之前首先經(jīng)受焦外輻射校正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述焦外輻射校正中，將代表了所測(cè)量的散射測(cè)量值中的焦外輻射分量的值從所測(cè)量的散射測(cè)量值中減去。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，借助多個(gè)散射傳感器(SS)測(cè)量所述散射測(cè)量值，并且借助投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的檢測(cè)器元件測(cè)量所述X射線投影數(shù)據(jù)(P)，并且其中，從所述投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的檢測(cè)器元件(E)的檢測(cè)器測(cè)量值中確定在所述散射測(cè)量值中所包含的焦外輻射分量。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，基于檢測(cè)器值的加權(quán)和形成在利用散射傳感器(SS)測(cè)量的散射測(cè)量值中的焦外輻射分量，通過(guò)使用與有關(guān)的散射傳感器(SS)在環(huán)境中相鄰的檢測(cè)器元件(E)的檢測(cè)器測(cè)量值借助于定義的和權(quán)重(κ_q)來(lái)確定所述加權(quán)和。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，將散射傳感器(SS)布置在所述投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的邊緣(R)上或旁邊，并且在利用該散射傳感器(SS)測(cè)量的散射測(cè)量值中基于檢測(cè)器值形成用于確定焦外輻射分量的加權(quán)和，所述檢測(cè)器值通過(guò)使用多個(gè)檢測(cè)器元件(E)的檢測(cè)器測(cè)量值形成，所述檢測(cè)器元件(E)相對(duì)于有關(guān)的散射傳感器(SS)布置在沿垂直于投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的邊緣(R)走向的方向(z)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，通過(guò)使用由多個(gè)平行于邊緣(R)的檢測(cè)器元件(E)的檢測(cè)器測(cè)量值形成所述檢測(cè)器值。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其中，將所述散射傳感器(SS)與所述投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的邊緣(R)間隔開(kāi)地布置，并且在加權(quán)和中考慮代表了布置在該散射傳感器(SS)和該投影數(shù)據(jù)檢測(cè)器系統(tǒng)(D)的邊緣(R)之間的多個(gè)虛擬檢測(cè)器元件的檢測(cè)器測(cè)量值的內(nèi)插和/或外插的檢測(cè)器值。

8.根據(jù)權(quán)利要求4至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，將散射測(cè)量值在求減之前與正的加權(quán)因數(shù)相乘。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法，其中，對(duì)于散射校正，如果有關(guān)的散射測(cè)量值在焦外校正之后具有負(fù)值，則為校正的散射測(cè)量值賦予0值。

10.根據(jù)權(quán)利要求4至9中任一項(xiàng)所述的方法，其中，對(duì)于X射線系統(tǒng)(C1)，特別是計(jì)算機(jī)斷層造影系統(tǒng)(C1)，為焦外輻射校正事先提供多個(gè)不同的和權(quán)重(κ_q)的組。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，借助于在有關(guān)的計(jì)算機(jī)斷層造影系統(tǒng)(C1)上或相匹配類型的計(jì)算機(jī)斷層造影系統(tǒng)(C1)上的試驗(yàn)測(cè)量來(lái)確定所述和權(quán)重(κ_q)。

12.根據(jù)權(quán)利要求4至11中任一項(xiàng)所述的方法，其中，取決于傳感器行(ζ)并且可選地取決于焦點(diǎn)位置(F)和/或管電壓和/或X射線源(C2、C4)的管側(cè)的準(zhǔn)直器的打開(kāi)寬度來(lái)確定所述和權(quán)重。

13.一種用于處理檢查對(duì)象(O)的X射線投影數(shù)據(jù)(P)的投影數(shù)據(jù)處理裝置(20)，具有：

-接口設(shè)備(C23)，用于接收X射線投影數(shù)據(jù)(P)以及散射測(cè)量值，

-焦外輻射校正單元(C21a)，用于在焦外輻射校正的范圍內(nèi)校正散射測(cè)量值，

-散射校正單元(C21b)，用于基于校正的散射測(cè)量值在散射校正的范圍內(nèi)校正X射線投影數(shù)據(jù)(P)，和

-重建單元(C21c)，用于基于校正的X射線投影數(shù)據(jù)(P_corr)重建檢查對(duì)象(O)的圖像數(shù)據(jù)(BD)。

14.一種X射線系統(tǒng)(C1)，具有至少一個(gè)X射線源(C2、C4)和至少一個(gè)用于采集檢查對(duì)象(O)的X射線投影數(shù)據(jù)(P)的檢測(cè)器系統(tǒng)(C3、C5)，所述X射線系統(tǒng)(C1)特別是具有根據(jù)權(quán)利要求13所述的投影數(shù)據(jù)處理裝置(20)的計(jì)算機(jī)斷層造影系統(tǒng)(C1)。

15.一種計(jì)算機(jī)程序，具有包括程序代碼(Prg₁至Prg_n)的程序代碼裝置，以便在所述計(jì)算機(jī)程序在計(jì)算機(jī)上運(yùn)行時(shí)執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的方法。