[發明專利]一種構件表面的熱障涂層及其制備方法有效
| 申請號： | 201210081662.7 | 申請日： | 2012-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN103317787A | 公開（公告）日： | 2013-09-25 |
| 發明（設計）人： | 厲艷君;謝有桃;黃利平;鄭學斌 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | B32B9/04 | 分類號： | B32B9/04;B32B18/00;C23C14/08;C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲 |
| 地址： | 200050 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 構件 表面 熱障 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種構件表面的熱障涂層，具有黏結層和陶瓷面層，其特征在于，在所述黏結層和陶瓷面層之間還具有厚度小于2微米的氧化鋁薄層。
2.根據權利要求1所述的熱障涂層，其特征在于，所述黏結層的化學式為MCrAlY，其中M為Ni，Co或Ni+Co；所述陶瓷面層為氧化鋯。
3.根據權利要求1所述的熱障涂層，其特征在于，所述黏結層和氧化鋁薄層的層厚比為300∶1～50∶1。
4.根據權利要求3所述的熱障涂層，其特征在于，所述黏結層和氧化鋁薄層的層厚比為100∶1～50∶1。
5.一種如權利要求1至4中任一項所述的熱障涂層的制備方法，其特征在于，包括在高溫構件表面沉積黏結層的步驟(1)，以物理氣相沉積法在黏結層表面沉積氧化鋁薄層的步驟(2)，以及在氧化鋁薄層表面沉積陶瓷面層的步驟(3)。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中以真空等離子體噴涂工藝將黏結層噴涂于高溫構件表面，所沉積的黏結層的厚度為50～150微米。
7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，步驟(3)中以大氣等離子體噴涂工藝將部分氧化釔穩定的氧化鋯粉體噴涂于氧化鋁薄層表面，所沉積的陶瓷面層的厚度為150～300微米。
8.根據權利要求5至7中任一項所述的制備方法，其特征在于，在步驟(2)中以物理氣相沉積法沉積氧化鋁薄層的各工藝參數為：真空度1×10-4～1×10-3Pa；基體偏壓-50～(-150)V；放電電流50～150A；氣氛為Ar氣，以及沉積時間為60～120min。
9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，在以物理氣相沉積法沉積氧化鋁薄層之前先將已沉積黏結層的樣品在無水乙醇溶液中超聲清洗。
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