[發(fā)明專利]涂覆裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210081025.X
• 申請日: 2012-03-23
• 公開（公告）號: CN102728516A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 相馬達(dá)也
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及涂覆裝置的技術(shù)領(lǐng)域。具體地，本發(fā)明涉及利用具有涂覆液膜張緊于其上的開口的膜形成體，將涂覆液涂布在涂覆對象表面上以減少涂覆液的使用量的技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

存在將涂覆液涂布在諸如圓柱基材和板狀基板的涂覆對象的表面以形成涂布膜(薄膜)的涂覆裝置。作為這種涂覆裝置，存在通過采用浸漬法將涂覆液涂布在涂覆對象上的裝置。

在采用浸漬法的涂覆裝置中，涂覆對象整體浸入到儲存在浸漬槽中的涂覆液中，并且相對于浸漬槽拉出涂覆對象以在涂覆對象的表面上形成涂布膜。

在采用浸漬法的這種涂覆裝置中，涂覆對象整體浸入到涂覆液中，使得使用了大量的涂覆液。此外，浸漬槽的高度必須等于或大于涂覆對象，導(dǎo)致裝置變得大型化。

因此，公開了這種涂覆裝置，其包括：浸漬槽，在其底部具有用于插入涂覆對象的貫通孔，并且其內(nèi)部儲存有涂覆液；密封材料，用于防止涂覆液從涂覆對象和浸漬槽之間的間隙中泄漏等(例如，日本未審查專利申請公開第61-20044號和日本未審查專利申請公開第2009-18268號)。

在這種涂覆裝置中，涂覆對象被插入形成于浸漬槽上的貫通孔中，并且在密封材料與涂覆對象的外周面接觸的狀態(tài)下，拉出涂覆對象或者下拉浸漬槽。當(dāng)移動涂覆對象或浸漬槽時，從涂覆對象的外周面的上側(cè)至下側(cè)順次涂布有涂覆液，以形成涂布膜，從而成形感光體等。

發(fā)明內(nèi)容

然而，在日本未審查專利申請公開第61-20044號和日本未審查專利申請公開第2009-18268號公開的涂覆裝置中，相對于涂覆對象移動浸漬槽，以向涂覆對象的外周面順次涂布儲存在浸漬槽中的涂覆液，使得必須儲存有足夠量的將涂布至涂覆對象的整個外周面的涂覆液，或者從供給單元提供足夠量的涂覆液。因此，涂覆液使用量較大且成形成本較高是極大的缺陷。尤其當(dāng)涂覆液比較昂貴時，成形成本劇增。

此外，在日本未審查專利申請公開第61-20044號和日本未審查專利申請公開第2009-18268號公開的涂覆裝置中，涂覆對象插入形成在浸漬槽底部上的貫通孔中并且相對地拉出涂覆對象，使得必須設(shè)置用于防止涂覆液從涂覆對象和浸漬槽之間的間隙泄漏的構(gòu)造，使得浸漬槽的構(gòu)造等變得復(fù)雜。

在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的涂覆裝置中，期望減少涂覆液的使用量并簡化構(gòu)造。

一種涂覆裝置，包括：液體儲存槽，其中儲存有要涂布至涂覆對象的涂覆液；以及膜形成體，具有環(huán)狀并包括通過將膜形成體浸入儲存在液體儲存槽中的涂覆液而使得膜張緊于其上的開口。在涂覆裝置中，相對于涂覆對象移動膜形成體，并且涂覆對象插入張緊有膜的開口，以將涂覆液涂布至涂覆對象的表面。

因此，在涂覆裝置中，形成為環(huán)狀并包括開口的膜形成體相對于涂覆對象移動，并且涂覆對象被插入其上張緊有涂覆液膜的開口，以將涂覆液涂布至涂覆對象的表面。

在上述涂覆裝置中，優(yōu)選地，膜形成體包括形成為環(huán)狀的外環(huán)部以及形成為環(huán)狀、包括開口并從外環(huán)部的內(nèi)周緣突出的內(nèi)環(huán)部，并且內(nèi)環(huán)部的前端緣定位在低于外環(huán)部的內(nèi)周緣的位置處。

因此，包括開口并從形成為環(huán)狀的外環(huán)部的內(nèi)圍部突出的內(nèi)環(huán)部的前端緣定位在低于外環(huán)部的內(nèi)周緣的位置處，使得內(nèi)環(huán)部比外環(huán)部更容易浸入涂覆液中。

在上述涂覆裝置中，優(yōu)選地，內(nèi)環(huán)部隨著從外環(huán)部的內(nèi)周緣靠近開口而相對于外環(huán)部傾斜，并且內(nèi)環(huán)部的內(nèi)周緣被定位在外環(huán)部的內(nèi)周緣的內(nèi)側(cè)。

因此，內(nèi)環(huán)部隨著從外環(huán)部的內(nèi)周緣靠近開口而相對于外環(huán)部傾斜，并且內(nèi)環(huán)部的內(nèi)周緣定位在外環(huán)部的內(nèi)周緣的內(nèi)側(cè)。因此，外環(huán)部的內(nèi)周緣與涂覆對象之間的間隙大于內(nèi)環(huán)部的內(nèi)周緣與涂覆對象之間的間隙。

在上述涂覆裝置中，優(yōu)選地，在涂覆對象的下端部以及膜形成體的至少開口浸入儲存在液體儲存槽中的涂覆液的狀態(tài)下，開始膜形成體的移動。

因此，在涂覆對象的下端部以及膜形成體的至少開口浸入儲存在液體儲存槽中的涂覆液的狀態(tài)下，開始膜形成體的移動。因此，在涂覆對象的外周面與膜形成體的內(nèi)周緣之間形成膜。

在上述涂覆裝置中，優(yōu)選地，在涂覆對象的位于膜形成體移動方向上的端部上，附接有被形成為在膜形成體移動方向上具有尖細(xì)形狀的液體滴落防止體。

因此，在涂覆對象的位于膜形成體移動方向上的端部上，附接有被形成為在膜形成體的移動方向上具有尖細(xì)形狀的液體滴落防止體，使得在膜破裂的情況下，涂覆液的滴落發(fā)生在液體滴落防止體的表面上。

在上述涂覆裝置中，優(yōu)選地，膜形成體相對于涂覆對象來回移動。

因此，膜形成體相對于涂覆對象來回移動，使得涂覆液被反復(fù)地涂布至涂覆對象。