[發明專利]一種高功率激光光束取樣器及高功率激光光束測量系統

有效

• 申請號: 201210079987.1
• 申請日: 2012-03-23
• 公開（公告）號: CN102620817A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 吳勇;楊鵬翎;陳紹武;王平;王振寶;武俊杰;劉福華;馮國斌;葉錫生
• 申請（專利權）人: 西北核技術研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04;G01J1/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 王少文

1.一種高功率激光光束取樣器，其特征在于：包括多根光纖和多個沿激光入射方向平行且層疊排布的介質平板；所述相鄰介質平板間設置有多個并行排布的帶圓弧過渡的L形凹槽；所述多根光纖分別設置在相應的L形凹槽內；所述光纖包括入射端和輸出端，其入射端迎著激光入射方向，其輸出端與取樣器外部的探測器相連；所述光纖為去除涂敷層的裸光纖；所述的介質平板和光纖對激光高透射。

2.根據權利要求1所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的L形凹槽橫截面為V形或U型，所述光纖在L形凹槽內的高度不低于L形凹槽上沿，所述光纖被相鄰的介質平板壓緊固定在L形凹槽內。

3.根據權利要求1所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的L形凹槽橫截面為V形或U型，所述光纖在L形凹槽內的高度低于L形凹槽上沿，所述光纖的輸出端固定在L形凹槽的邊沿上或介質平板的側面上。

4.根據權利要求1或2或3所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的L形凹槽在介質平板工作面上為等間距排列。

5.根據權利要求4所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述光纖端面機械切割或拋光為整齊端面，所述光纖入射端外伸介質平板邊沿的長度為1-5mm。

6.根據權利要求5所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的介質平板的六個面和L形凹槽內表面拋光處理為光潔面。

7.根據權利要求6所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的光纖為大數值孔徑光纖。

8.根據權利要求7所述的高功率激光光束取樣器，其特征在于：所述的介質平板材料為石英、硅或碳化硅；所述的光纖為石英光纖、紅外光纖或紫外光纖。

9.一種應用權利要求1所述高功率激光光束取樣器的高功率激光光束測量系統，其特征在于：包括高功率激光光束取樣器和光衰減及探測單元；所述光衰減及探測單元包括多個探測器、信號處理電路和數據采集處理單元；所述高功率激光光束取樣器的光纖輸出端與探測器相連；所述探測器產生的信號經信號處理電路處理后送入數據采集處理單元。

10.根據權利要求9所述的高功率激光光束測量系統，其特征在于：所述光衰減及探測單元包括衰減器，所述衰減器包括吸收介質膜衰減器或者光纖衰減器，其設置在光纖輸出端和探測器之間。