[發(fā)明專利]一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜及其鍍膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210078107.9
• 申請(qǐng)日: 2012-03-22
• 公開（公告）號(hào): CN102615875A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龔玉根
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞勁勝精密組件股份有限公司;東莞華清光學(xué)科技有限公司
• 主分類號(hào): B32B9/04
• 分類號(hào): B32B9/04;C23C14/30;C23C14/08
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林;李志強(qiáng)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種手機(jī)觸摸屏玻璃面板的真空鍍膜，特別是涉及一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜及其鍍膜方法。

背景技術(shù)

隨著近年來(lái)手機(jī)行業(yè)的飛速發(fā)展,功能已經(jīng)不是消費(fèi)者唯一追求的目標(biāo).手機(jī)外表也吸引著大眾的目光。因此，擁有金屬光澤和色彩的手機(jī)外殼及電容式觸摸屏玻璃觸摸面板發(fā)展成為手機(jī)裝飾不可取代的一部分。

由于金屬或者金屬膜層的外殼會(huì)屏蔽手機(jī)發(fā)射的信號(hào),所以,手機(jī)生產(chǎn)商希望能夠得到一種既擁有金屬效果又不會(huì)影響手機(jī)信號(hào)的手機(jī)外殼，目前國(guó)內(nèi)真空鍍膜制備手機(jī)外殼不連續(xù)膜層的鍍膜方法，使用銦錫合金作為鍍膜原材料。如中華人民共和國(guó)專利申請(qǐng)第201120065977.3、201010258327.0號(hào)均有所公開。

為了整個(gè)手機(jī)外觀的協(xié)調(diào)美觀統(tǒng)一，鍍膜膜料銦錫合金鍍制到玻璃表面上附著力差、抗機(jī)械強(qiáng)度差，在鍍膜面上絲印油墨很容易碰傷鍍膜面，銦錫合金在制備在玻璃表面暴露在空氣中非常易氧化，氧化后的銦錫膜層會(huì)變顏色，不呈現(xiàn)銦錫合金本來(lái)中性的特色，不適合批量生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，薄膜附著力好、抗機(jī)械強(qiáng)度好、在鍍膜面上絲印油墨不會(huì)碰傷鍍膜面?，制備工藝穩(wěn)定、金屬質(zhì)感強(qiáng)、耐候性能好、膜層暴露空氣中長(zhǎng)時(shí)間不容易氧化，適合批量化生產(chǎn)。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜，設(shè)置于玻璃基板外側(cè)，所述的薄膜涂覆在玻璃基板上，薄膜從玻璃基板向外依次包括若干相互涂覆或粘覆的二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層并交替設(shè)置。

進(jìn)一步的，所述的薄膜從靠近玻璃基板的一側(cè)依次包括二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層。

進(jìn)一步的，所述的薄膜的第一層二氧化鈦膜層厚度為108.06～115.30納米，第二層二氧化硅膜層厚度為89.16～94.5納米，第三層二氧化鈦膜層厚度為54.03～57.65納米，第四層二氧化硅膜層厚度為89.16～94.5納米，第五層二氧化鈦膜層厚度為54.03～57.65納米。

進(jìn)一步的，所述薄膜的中心波長(zhǎng)為520～550納米。

不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜的鍍膜方法，步驟如下：

步驟1、光學(xué)真空鍍膜制備銀白色薄膜

對(duì)真空度、玻璃基板的加熱溫度、鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率、電子槍的電壓、二氧化鈦的蒸發(fā)速率、二氧化硅的蒸發(fā)速率進(jìn)行設(shè)定；

依次在玻璃基板的表面鍍二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層、二氧化鈦膜層；?

步驟2、對(duì)不連續(xù)金屬質(zhì)感銀白色薄膜進(jìn)行絲網(wǎng)印刷

對(duì)鍍膜后的玻璃產(chǎn)品進(jìn)行油墨絲網(wǎng)印刷，往絲網(wǎng)印刷網(wǎng)板上添加黑色油墨，把鍍膜后的玻璃產(chǎn)品放到印刷機(jī)的網(wǎng)板正下方的固定底座上，按下印刷機(jī)的自動(dòng)印刷開始開關(guān)，進(jìn)行自動(dòng)印刷，把印刷好的鍍膜玻璃產(chǎn)品放入烘烤箱烘烤；

步驟3、膜層褪膜

把褪鍍液倒入保溫箱，并加熱褪鍍液體，溫度控制在80℃恒溫，再把絲印好的鍍膜產(chǎn)品放入褪鍍液中并浸沒(méi)并浸泡，浸泡后取出產(chǎn)品放入干凈的清水中，再用清水沖洗干凈即獲得薄膜。

進(jìn)一步的，步驟1所述的鍍膜真空度為1～5×10ˉ³帕，玻璃基板的加熱溫度為115～125℃，鍍膜基板的旋轉(zhuǎn)頻率為50Hz，電子槍的電壓為-6～10KV，二氧化鈦的蒸發(fā)速率為1～10埃/秒，二氧化硅的蒸發(fā)速率為5～20埃/秒。

進(jìn)一步的，步驟2所述的烤箱內(nèi)的溫度設(shè)定為160～200度，烘烤時(shí)間為5～30分鐘。

進(jìn)一步的，步驟3所述的浸泡時(shí)間為1～10分鐘。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：在光學(xué)真空鍍膜機(jī)上，利用二氧化鈦、二氧化硅作為鍍膜原料在玻璃表面制備銀白色不連續(xù)膜層，利用薄膜干涉原理，膜層附著力好、抗機(jī)械強(qiáng)度好、有利于批量生產(chǎn)。

附圖說(shuō)明

?圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例參照附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，以便對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征及優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行更深入的詮釋。