[發(fā)明專利]偏光板的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210077923.8 | 申請日: | 2012-03-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102692665A | 公開(公告)日: | 2012-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高畑弘明;古川淳;廣巖梓;清水英滿 | 申請(專利權(quán))人: | 住友化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;B32B37/12;B32B37/10 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏光 制造 方法 | ||
1.一種制造偏光板的方法,其中,具有如下工序:
(A)在熱塑性樹脂制的光學(xué)薄膜上涂布粘接劑,在20℃下由D線所測量的所述光學(xué)薄膜的折射率處于1.4~1.7的范圍,在20℃下由D線所測量的所述粘接劑的折射率,與在20℃下由D線所測量的所述光學(xué)薄膜的折射率相差0.03以上,并且涂布粘接劑是使用具有所述粘接劑的涂布厚的控制部的涂布機(jī)來進(jìn)行的;
(B)通過光譜波長范圍設(shè)定在800nm以下的范圍內(nèi)的分光干涉法,對所涂布的所述粘接劑的厚度進(jìn)行計(jì)測;
(C)在所述光學(xué)薄膜的粘接劑涂布面重疊聚乙烯醇系樹脂制的偏光膜,相對于所述偏光膜將所述光學(xué)薄膜加壓,而使所述偏光膜和所述光學(xué)薄膜經(jīng)由所述粘接劑貼合;
(D)根據(jù)設(shè)定在0.5~5μm的范圍內(nèi)的所述粘接劑的設(shè)定厚度Y和所述粘接劑的計(jì)測厚度X,對所述控制部進(jìn)行控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,
對應(yīng)于所述粘接劑的設(shè)定厚度Y的、所述粘接劑的計(jì)測厚度X和所述粘接劑的設(shè)定厚度Y之差的絕對值的比例在規(guī)定值以上時(shí),所述控制部被控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,
對應(yīng)于所述粘接劑的設(shè)定厚度Y的、所述粘接劑的計(jì)測厚度X和所述粘接劑的設(shè)定厚度Y之差的絕對值的比例為5%以上時(shí),所述控制部被控制。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于住友化學(xué)株式會(huì)社,未經(jīng)住友化學(xué)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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