[發明專利]基于表示模型和分類模型的云臺跟蹤方法

在審

• 申請號: 201210077638.6
• 申請日: 2012-03-21
• 公開（公告）號: CN102663419A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: 朱松純;解易;雷鵬;姚振宇;明安龍;宋桂嶺
• 申請（專利權）人: 江蘇視軟智能系統有限公司
• 主分類號: G06K9/62
• 分類號: G06K9/62;H04N5/232
• 代理公司: 北京中恒高博知識產權代理有限公司 11249
• 代理人: 宋敏

1.一種基于表示模型和分類模型的云臺跟蹤方法，主要包括以下步驟：

a）：目標初始化：生成灰度基準仿射矩陣和輪廓原型基準仿射矩陣；

b）：根據上述灰度基準仿射矩陣和輪廓原型基準仿射矩陣生成粒子；

c）：初始化分類器；

d）：對上述b步驟中生成的粒子進行帶重新初始化的粒子濾波；

e）：估計目標位置；

f）：利用c步驟中的分類器判斷上述檢測到的目標位置是否丟失；

g）：若上述分類器的返回值超過閥值，則更新分類器，返回步驟d，如上述分類器的返回值沒有超過閥值，則對目標進行檢測。

2.根據權利要求1所述的基于表示模型和分類模型的云臺跟蹤方法，上述生成灰度基準仿射矩陣和輪廓原型基準仿射矩陣包括以下步驟：

定義一個目標框，目標框的左下，左上，右上，右下角坐標表示為???????????????????????????????????????????????、、、；

計算相對于上述左下，左上，右上坐標為、、的區域的灰度基準仿射矩陣，為避免得到過決定問題，計算過程中沒有使用右下角坐標：

；

輪廓原型基準仿射矩陣包括正面輪廓原型基準仿射矩陣和側面輪廓原型基準仿射矩陣；

正面輪廓的外接矩形的左下，左上，右上，右下角坐標為，側面輪廓的外接矩形的左下，左上，右上，右下角坐標為；

計算目標框相對于正面和側面輪廓圓形的外接矩形區域基準仿射矩陣和；

與灰度基準矩陣計算類似，為了避免得到過決定問題，計算過程中沒有使用右下角坐標：

，

；

對上述正面輪廓原型基準仿射矩陣和側面輪廓原型基準仿射矩陣進行外觀似然計算，確定輪廓原型基準仿射矩陣采用上述正面輪廓原型基準仿射矩陣或側面輪廓原型基準仿射矩陣的一個。

3.根據權利要求2所述的基于表示模型和分類模型的云臺跟蹤方法，上述外觀似然公式為：

??

是偏移向量的期望，，表示偏移向量。