[發明專利]一種Sb-Te-Ti相變存儲材料及Ti-Sb2Te相變存儲材料有效
| 申請號: | 201210076528.8 | 申請日: | 2012-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN102569652A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 吳良才;朱敏;宋志棠;饒峰;宋三年;劉波;封松林 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | H01L45/00 | 分類號: | H01L45/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 許亦琳;余明偉 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 sb te ti 相變 存儲 材料 sub | ||
技術領域
本發明涉及相變材料及其制備方法,尤其是可用于相變存儲器的Sb-Te-Ti相變薄膜材料。
背景技術
相變存儲器(PCRAM)原理是以硫系化合物為存儲介質,利用電能(熱量)使材料在晶態(低阻)與非晶態(高阻)之間相互轉換實現信息的寫入與擦除,信息的讀出靠測量電阻的大小,比較其高阻“1”還是低阻“0”來實現的。
Sb-Te系列相變材料結晶過程以晶粒生長占主導,因此相變速率快,而且熔點比GST(Ge2Sb2Te5)低,因此所需功耗低。然而Sb-Te系列相變材料同時也存在結晶溫度低,熱穩定性差,數據保持力差等缺點。
作為新興的非揮發性存儲器的相變存儲器(PCRAM),具有易失性、循環壽命長,功耗低,存儲速度快以及制造工藝簡單等優點,因此被廣泛研究。新興的相變存儲器以硫系化合物為存儲介質,利用電脈沖使材料在非晶態(高阻)與晶態(低阻)之間相互轉化,伴隨較大的電阻變化,從而實現信息的寫入和擦除。在相變存儲器的研發中,如何提高數據保持力以及降低器件功耗一直都是研究的重點。
富Sb的Sb-Te系列相變材料具有非??斓慕Y晶速率,但是由于Sb含量的增加,數據保持力降低,熱穩定性差,需要對此進行摻雜改性。為了能提高其熱穩定性,且保持高速相變的優點,摻入的雜質應與Sb-Te不產生新的化合物。
發明內容
本發明的目的主要在于提供一種用于相變存儲器的Sb-Te-Ti相變材料,以提高相變材料的熱穩定性、非晶態電阻,降低材料的Reset電流與熔化溫度等。
本發明還提供了一種用于相變存儲器的摻Ti的Ti-Sb2Te相變存儲材料,其中Ti的原子百分比小于50%,以提高材料的熱穩定性、熱導率及熔點。本發明的用于相變存儲器的摻Ti-Sb2Te相變存儲材料,Ti的存在一方面抵制了相變材料晶粒的長大,提升了材料的電阻率和結晶溫度,增加了相變材料的熱穩定性;另一方面相變材料的熱導率與熔點也變小,這有利于減小相變存儲器的功耗。
為了解決上述技術問題,本發明采用如下的技術方案來實現:
一種用于相變存儲器的Sb-Te-Ti相變存儲材料,是在Sb-Te相變材料的基礎上摻入Ti而成,其化學通式為SbxTeyTi100-x-y,其中0<x<80,0<y<100-x。本發明化學通式中元素的右下角部分代表摩爾比。
較佳的,所述x的取值范圍為45≤x≤72,y的取值范圍為5≤y≤45。
所述Sb-Te-Ti相變存儲材料中,摻入的Ti與Sb、Te均成化學鍵。
較佳的,所述Sb-Te-Ti相變存儲材料為Sb-Te-Ti相變薄膜材料。優選的,所述Sb-Te-Ti相變薄膜材料的厚度為100-250nm。
較佳的,所述Sb-Te-Ti相變存儲材料采用電脈沖作用實現電阻率的可逆轉變。
較佳的,所述Sb-Te-Ti相變存儲材料采用激光脈沖作用實現光學反射率的可逆轉變。
所述Sb-Te-Ti相變存儲材料的結晶溫度得到大幅度提升,熱穩定性增強,數據保持力增強。
所述Sb-Te-Ti相變存儲材料的非晶態電阻降低,晶態電阻升高。
本發明的上述的用于相變存儲器的Sb-Te-Ti相變存儲材料,所述Sb-Te相變存儲材料為Sb2Te相變存儲材料,在Sb2Te相變存儲材料中摻入Ti后獲得的Sb-Te-Ti相變存儲材料為Ti-Sb2Te相變存儲材料,所述化學通式SbxTeyTi100-x-y中,Ti的原子百分含量小于50%。
較佳的,所述Ti-Sb2Te相變存儲材料中,Ti的原子百分含量在2%-20%之間。
較佳的,所述Ti-Sb2Te相變存儲材料中,Ti原子替代Sb原子的位置,且沒有分相。
較佳的,所述Ti-Sb2Te相變存儲材料采用電脈沖作用實現電阻率的可逆轉變。
較佳的,所述Ti-Sb2Te相變存儲材料采用激光脈沖作用實現光學反射率的可逆轉變。
較佳的,所述Ti-Sb2Te相變存儲材料的高阻態比低阻態的電阻值至少大1倍。
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