[發明專利]表面處理膜及其制造方法無效
| 申請號： | 201210071611.6 | 申請日： | 2012-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN102681052A | 公開（公告）日： | 2012-09-19 |
| 發明（設計）人： | 福浦知浩;羽場康弘 | 申請（專利權）人： | 住友化學株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/02 | 分類號： | G02B5/02;B32B27/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 趙曦;金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表面 處理 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種表面處理膜，其特征在于，具有包含透光性樹脂與透光性微粒的光擴散層，
將所述光擴散層中的所述透光性微粒的體積填充率設為P、所述光擴散層的層厚設為l時，下述式(1)規定的線填充指數A為4.5以上，其中P以％計，l和A的單位為μm，
A＝l×(P/100)式(1)。
2.根據權利要求1所述的表面處理膜，其中，所述光擴散層的所述透光性微粒的體積填充率為25％以上。
3.根據權利要求1所述的表面處理膜，其中，在所述光擴散層中，所述透光性樹脂與所述透光性微粒的折射率之差為0.02～0.05。
4.根據權利要求1所述的表面處理膜，其中，所述透光性微粒包含第1透光性微粒、和重均粒徑大于所述第1透光性微粒的第2透光性微粒。
5.根據權利要求4所述的表面處理膜，其中，所述第2透光性微粒與所述第1透光性微粒的重均粒徑的比率大于1且為8以下。
6.根據權利要求1所述的表面處理膜，其中，所述光擴散層的層厚為9μm～30μm。
7.制造權利要求1所述的表面處理膜的方法，其特征在于，
所述光擴散層利用下述方法形成，所述方法具有以下工序：
涂布工序，其涂布含有所述透光性樹脂和所述透光性微粒的涂布液來形成涂布層；
壓縮工序，其把平坦面推抵到所述涂布層的表面而將所述涂布層壓縮；和
固化工序，其將所述涂布層固化。
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