[發(fā)明專利]排氣管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210071584.2 | 申請日: | 2012-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN102678249A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林康太郎;堂前拓己;齋木健藏 | 申請(專利權(quán))人: | 揖斐電株式會(huì)社 |
| 主分類號: | F01N13/08 | 分類號: | F01N13/08;F01N13/16 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香蘭;孟偉青 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 排氣管 | ||
1.一種排氣管,其具備金屬基材和形成在所述金屬基材的表面上的表面被覆層,該排氣管的特征在于,
所述表面被覆層含有無機(jī)玻璃基材;
在所述表面被覆層的表面存在有低于第一基準(zhǔn)面的凹區(qū)域,所述第一基準(zhǔn)面具有所述表面被覆層的表面的平均高度;
在所述凹區(qū)域的周邊部存在有凸?fàn)畈浚撏範(fàn)畈堪鼑霭紖^(qū)域,所述凸?fàn)畈扛哂谒龅谝换鶞?zhǔn)面。
2.如權(quán)利要求1所述的排氣管,其中,設(shè)所述表面被覆層的表面高度的最大值為Hmax、設(shè)所述表面被覆層的表面高度的最小值為Hmin、設(shè)Hmax與Hmin的差為H時(shí),所述凸?fàn)畈扛哂诰哂?Hmax-H×1/3)的高度的第二基準(zhǔn)面。
3.如權(quán)利要求1或2所述的排氣管,其中,所述凹區(qū)域從垂直于所述金屬基材的表面的方向觀察到的形狀實(shí)質(zhì)上為圓形。
4.如權(quán)利要求1~3的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,設(shè)所述表面被覆層的表面高度的最小值為Hmin、設(shè)具有Hmin高度的面與所述金屬基材的表面的距離為d時(shí),d>0。
5.如權(quán)利要求4所述的排氣管,其中,d≥2μm。
6.如權(quán)利要求1~5的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,所述凹區(qū)域從垂直于所述金屬基材的表面的方向觀察到的形狀實(shí)質(zhì)上是直徑為3μm~2000μm的圓形。
7.如權(quán)利要求1~6的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,所述凹區(qū)域的密度為10個(gè)/cm2~107個(gè)/cm2。
8.如權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,所述表面被覆層進(jìn)一步含有無機(jī)顆粒。
9.如權(quán)利要求8所述的排氣管,其中,所述無機(jī)顆粒的平均粒徑為3μm以下。
10.如權(quán)利要求8或9所述的排氣管,其中,所述無機(jī)顆粒的顆粒間距離的平均值為3μm以下。
11.如權(quán)利要求8~10的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,所述無機(jī)顆粒為過渡金屬的氧化物。
12.如權(quán)利要求1~11的任一項(xiàng)所述的排氣管,其中,所述無機(jī)玻璃基材的軟化點(diǎn)為300℃~1000℃。
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- 專利分類
F01N 一般機(jī)器或發(fā)動(dòng)機(jī)的氣流消音器或排氣裝置;內(nèi)燃機(jī)的氣流消音器或排氣裝置
F01N13-00 以結(jié)構(gòu)特點(diǎn)為特征的排氣裝置或消音裝置
F01N13-02 .具有兩個(gè)或多個(gè)獨(dú)立的串聯(lián)的消音器裝置
F01N13-04 .具有兩個(gè)或多個(gè)并聯(lián)的消音器,例如用于多汽缸發(fā)動(dòng)機(jī)的互相連接裝置
F01N13-06 .專門適用于星形排列的汽缸,如排氣歧管
F01N13-08 .排氣管的其他裝置或適配裝置
F01N13-12 .專門適用于水下排氣





