[發明專利]起偏器保護膜

有效

• 申請號: 201210071539.7
• 申請日: 2012-03-16
• 公開（公告）號: CN102681037A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 福浦知浩
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B5/02;G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙曦;金世煜

1.一種起偏器保護膜，具有光擴散層，

在反射圖像鮮明度測定試驗中的反射圖像鮮明度C_n的總和值R_c滿足下述式(1)的關系、且總霧度值H滿足下述式(2)的關系，所述C_n以％計，

所述反射圖像鮮明度測定試驗使來自試驗片的反射光的光量通過與反射光的光線軸正交的、以速度10mm/min移動的寬度n的光梳來進行測定，所述n的單位是mm，

在所述反射圖像鮮明度測定試驗中以光線軸上存在所述光梳的透過部分時的反射光量的最高值為M_n、光線軸上存在所述光梳的遮光部分時的反射光量的最小值為m_n時，所述反射圖像鮮明度C_n由下述式(3)算出，所述C_n以％計，

所述總和值R_c是所述光梳的寬度n分別為0.5、1、2時的反射圖像鮮明度C_0.5、C₁、C₂的總和值，所述n的單位是mm，

120≤R_c≤185?????式(1)

40≤H≤60????????式(2)

Cn＝{(M_n-m_n)/(M_n+m_n)}×100??式(3)。

2.根據權利要求1所述的起偏器保護膜，其中，層疊基材膜和所述光擴散層，所述基材膜和所述光擴散層的折射率差為0.03以上。

3.根據權利要求2所述的起偏器保護膜，其中，所述基材膜的折射率為1.59以上。

4.根據權利要求2所述的起偏器保護膜，其中，所述基材膜以聚酯系樹脂為主成分。

5.根據權利要求2所述的起偏器保護膜，其中，所述基材膜的厚度為50μm以下。

6.根據權利要求1所述的起偏器保護膜，其中，所述光擴散層含有透光性樹脂和透光性微粒。

7.根據權利要求6所述的起偏器保護膜，其中，所述光擴散層的厚度為10μm～20μm。

8.根據權利要求6所述的起偏器保護膜，其中，所述透光性微粒含有重均粒徑為3～5.5μm的第1透光性微粒和重均粒徑為7.2～9μm的第2透光性微粒。

9.根據權利要求6所述的起偏器保護膜，其中，所述光擴散層通過具有下述工序的方法形成：涂布含有所述透光性樹脂和所述透光性微粒的涂布液而形成涂布層的涂布工序，將平坦面推抵在所述涂布層的表面而壓縮所述涂布層的壓縮工序以及將所述涂布層固化的固化工序。

10.根據權利要求6所述的起偏器保護膜，其中，所述光擴散層的所述透光性微粒的體積填充率為40％以上。