[發明專利]平面擦拭裝置、擠水裝置和擦拭系統無效
| 申請號: | 201210070676.9 | 申請日: | 2012-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN102846282A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發明(設計)人: | 陳光中 | 申請(專利權)人: | 陳光中 |
| 主分類號: | A47L13/20 | 分類號: | A47L13/20;A47L13/24;A47L13/42;A47L13/58 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310004 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平面 擦拭 裝置 系統 | ||
1.一種具有擦拭板的平面擦拭裝置,包括一擦拭板,一包覆在擦拭板上的擦拭覆層,一設置在擦拭板上的鉸接裝置,一與鉸接裝置連接的操作柄,在所述擦拭板上開設有一港灣狀缺口,港灣狀缺口從擦拭板的一側邊延伸至鉸接裝置的鉸接位置,其特征是,所述鉸接裝置的零件包括具有互相垂直兩軸的本體、叉形抱箍和基座,其中,具有互相垂直兩軸的本體上的單軸與雙頭軸互相垂直,所述單軸與叉形抱箍鉸接,叉形抱箍與基座連接,所述雙頭軸與擦拭板鉸接,擦拭覆層永久地包覆在擦拭板上。
2.一種具有擦拭板的平面擦拭裝置,包括一擦拭板,一包覆在擦拭板上的擦拭覆層,一設置在擦拭板上的鉸接裝置,一與鉸接裝置連接的操作柄,在所述擦拭板上開設有一港灣狀缺口,港灣狀缺口從擦拭板的一側邊延伸至鉸接裝置的鉸接位置,所述鉸接裝置的零件包括具有互相垂直兩孔的本體、叉形基座、第二軸和第一軸,其中,具有互相垂直兩孔的本體上的第一孔與第二孔垂直,第二軸穿過第二孔與叉形基座鉸接,鉸接裝置通過所述第一軸和所述第一孔與擦拭板鉸接,其特征是,所述鉸接裝置還包括四壓板,在擦拭板上在港灣狀缺口的兩側開設一對矩形缺口,矩形缺口旁開有鉚釘孔,第一軸穿入具有互相垂直兩孔的本體的第一孔,其兩端置入矩形缺口中,矩形缺口的上下兩面用壓板以鉚釘鉚合,擦拭覆層永久地包覆在擦拭板上。
3.一種專用于所述平面擦拭裝置的擠水裝置,包括豎直設置的第一平面和相對于第一平面設置的可動的第二平面,在第一平面的下沿在第二平面的下方水平設置第四平面,在所述第四平面上設置若干通孔,還包括一個鉸鏈四桿機構,其中構件一為機架,上面設置所述第一平面和第四平面,構件二上面設置所述第二平面,構件四上設置可轉動軸,可轉動軸上設置把,其特征是,第一平面和第二平面的寬度上的中軸線水平設置,第一平面和第二平面的長度和寬度尺寸大于所述平面擦拭裝置的擦拭板外形的長度和寬度最大尺寸,在第一平面和第二平面上對稱設置一對彈性透水材料層,彈性透水材料層的外形長寬尺寸大于擦拭板的外形長寬尺寸,第二平面上設置的彈性透水材料層的正面表面相對于第一平面上設置的彈性透水材料層的正面表面的最大距離大于所述平面擦拭裝置的擦拭覆層兩主擦拭面之間的距離,第二平面上設置的彈性透水材料層的正面表面相對于第一平面上設置的彈性透水材料層的正面表面的最小距離小于所述平面擦拭裝置的擦拭覆層兩主擦拭面之間的距離,當第二平面與第一平面之間處于最小距離時,所述兩平面平行或接近平行,在第一平面的長度上的中軸線的中部設置至少一個通孔,在第二平面的長度上的中軸線的中部設置至少一個通孔。
4.一種具有擦拭板的平面擦拭裝置和專用于所述平面擦拭裝置的擠水裝置組成的擦拭系統,包括權利要求1、2中任一項所述的平面擦拭裝置和權利要求3所述的擠水裝置所組成的擦拭系統。
5.一種具有擦拭板的平面擦拭裝置,包括一擦拭板,一擦拭覆層,一設置在擦拭板上的鉸接裝置,一與鉸接裝置連接的操作柄,在所述擦拭板上開設有一港灣狀缺口,港灣狀缺口從擦拭板的一側邊延伸至鉸接裝置的鉸接位置,其特征是,所述鉸接裝置的零件包括具有互相垂直兩軸的本體、叉形抱箍和基座,其中,所述具有互相垂直兩軸的本體上的單軸與雙頭軸互相垂直,所述單軸與叉形抱箍鉸接,叉形抱箍與基座連接,所述雙頭軸與擦拭板鉸接,所述平面擦拭裝置還包括一對外形和尺寸與擦拭板的外形和尺寸相同或大部分相同的彈性透水材料層,所述一對彈性透水材料層敷設在擦拭板的上下兩面,所述擦拭覆層不但全部包覆了一對彈性透水材料層的互相背離的兩正面表面,還包覆了彈性透水材料層和擦拭板的大部分側面表面,擦拭覆層永久地包覆在兩彈性透水材料層和擦拭板上。
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