[發(fā)明專利]干涉曝光設(shè)備、干涉曝光方法以及半導(dǎo)體器件制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210070064.X
• 申請(qǐng)日: 2012-03-16
• 公開（公告）號(hào): CN102880005A
• 公開（公告）日: 2013-01-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小寺克昌;田中聰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 周良玉;楊曉光

1.一種干涉曝光設(shè)備，包括：

光路改變部分，其中改變?cè)换据S對(duì)稱地設(shè)置，所述改變?cè)m于對(duì)彼此具有相干性的多個(gè)光束改變?cè)摱鄠€(gè)光束的光路方向和光路長度；以及

調(diào)節(jié)部分，其被配置為與將在基底上形成的圖形形狀相對(duì)應(yīng)地對(duì)入射基底的光束的一部分進(jìn)行強(qiáng)度改變或相位改變，從而調(diào)節(jié)該光束的一部分，其中

從光路改變部分和調(diào)節(jié)部分出射的光束在基底上干涉以在基底上進(jìn)行干涉曝光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的干涉曝光設(shè)備，其中所述光路改變部分被配置為包括衍射柵，所述衍射柵在基本垂直于光束的平面中被設(shè)置為環(huán)形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的干涉曝光設(shè)備，其中

所述光路改變部分被配置為包括多個(gè)微反射鏡，以及

所述微反射鏡被設(shè)置在環(huán)形中以通過每個(gè)反射鏡表面構(gòu)成管狀內(nèi)壁表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的干涉曝光設(shè)備，其中

所述光路改變部分被配置為包括圓錐形的第一棱鏡和多角錐形的第二棱鏡。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的干涉曝光設(shè)備，還包括過濾部分，所述過濾部分被配置為過濾光束入射基底的角度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的干涉曝光設(shè)備，其中所述過濾部分被配置為包括以下元件之一：光圈、法布里-珀羅干涉系統(tǒng)、具有圓錐形的第三棱鏡、以及具有多角錐形的第四棱鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求2的干涉曝光設(shè)備，其中所述光路改變部分包括多個(gè)環(huán)，在所述環(huán)中設(shè)置衍射柵，多個(gè)環(huán)中的每個(gè)環(huán)被同心設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求3的干涉曝光設(shè)備，其中所述光路改變部分包括多個(gè)環(huán)，在所述環(huán)中設(shè)置微反射鏡，所述多個(gè)環(huán)中的每個(gè)環(huán)被同心設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的干涉曝光設(shè)備，其中所述調(diào)節(jié)部分是以下之一：兩個(gè)偏振片、能夠自由打開/關(guān)閉的快門、能夠移動(dòng)的微反射鏡陣列、以及掩模，或者是以上的組合。

10.根據(jù)權(quán)利要求4的干涉曝光設(shè)備，其中所述第一或第二棱鏡具有包括頂點(diǎn)部分的遠(yuǎn)端部分，所述頂點(diǎn)部分通過反射部件構(gòu)成，所述反射部件被配置為反射多個(gè)光束。

11.一種干涉曝光方法，包括以下步驟：

通過光路改變部分改變多個(gè)光束的光路方向和光路長度，在所述光路改變部分中，改變?cè)换据S對(duì)稱地設(shè)置，所述改變?cè)m于對(duì)彼此具有相干性的所述多個(gè)光束改變其光路方向和光路長度；

通過調(diào)節(jié)部分調(diào)節(jié)所述光束的一部分，所述調(diào)節(jié)部分被配置為與將在基底上形成的圖形形狀相對(duì)應(yīng)地對(duì)入射基底的光束的一部分進(jìn)行強(qiáng)度改變或相位改變，從而調(diào)節(jié)該光束的一部分；以及

使得從所述光路改變部分和所述調(diào)節(jié)部分出射的光束在基底上干涉以在基底上進(jìn)行干涉曝光。

12.根據(jù)權(quán)利要求11的干涉曝光方法，其中所述光路改變部分被配置為包括衍射柵，所述衍射柵在基本垂直于光束的平面中被設(shè)置為環(huán)形，以及

所述多個(gè)光束的光路方向和光路長度通過所述衍射柵改變。

13.根據(jù)權(quán)利要求11的干涉曝光方法，其中

所述光路改變部分被配置為包括多個(gè)微反射鏡，

所述微反射鏡被設(shè)置在環(huán)形中以通過每個(gè)反射鏡表面構(gòu)成管狀內(nèi)壁表面，以及

所述多個(gè)光束的光路方向和光路長度通過所述微反射鏡改變。

14.根據(jù)權(quán)利要求11的干涉曝光方法，其中

所述光路改變部分被配置為包括圓錐形的第一棱鏡和多角錐形的第二棱鏡，以及

所述多個(gè)光束的光路方向和光路長度通過所述第一或第二棱鏡改變。

15.根據(jù)權(quán)利要求11的干涉曝光方法，還包括通過過濾部分過濾所述光束的步驟，所述過濾部分被配置為過濾光束入射基底的角度。