[發(fā)明專利]一種平面薄片光學(xué)零件浮法上盤方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210069831.5
• 申請日: 2012-03-16
• 公開（公告）號: CN102581748A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳興建;曾賢高
• 申請（專利權(quán)）人: 成都貝瑞光電科技股份有限公司
• 主分類號: B24B37/07
• 分類號: B24B37/07
• 代理公司: 成都中亞專利代理有限公司 51126
• 代理人: 陳亞石

1.一種平面薄片光學(xué)零件浮法上盤方法，其特征在于：該方法包括以下步驟：

A．在待加工平面薄片光學(xué)零件（4）的粘結(jié)面上覆蓋鏡頭紙（3），再涂抹上洋干漆，烘干待用；

B．在粘結(jié)模（1）上均勻涂抹一層蓖麻油（2），將前述烘干待用的平面薄片光學(xué)零件（4）覆蓋有鏡頭紙（3）的一面朝向粘結(jié)模（1），擺放在涂抹了蓖麻油（2）的粘結(jié)模（1）上，并在平面薄片光學(xué)零件（4）之間留出空隙；

C．將熱熔膠（5）填充在所述平面薄片光學(xué)零件（4）之間的空隙處。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面薄片光學(xué)零件浮法上盤方法，其特征在于：將熱熔膠（5）填充在平面薄片光學(xué)零件（4）之間的空隙處后，加熱熱熔膠（5）至融化。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面薄片光學(xué)零件浮法上盤方法，其特征在于：所述加熱熱熔膠的方法為，使用烙鐵將其烙化。

4.根據(jù)上述1到3任意一項權(quán)利要求所述的平面薄片光學(xué)零件浮法上盤方法，其特征在于：在待加工平面薄片光學(xué)零件（4）的粘結(jié)面上覆蓋兩層鏡頭紙（3）。