[發明專利]一種窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法

有效

• 申請號: 201210069412.1
• 申請日: 2012-03-16
• 公開（公告）號: CN102633995A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 馬昌期;陳周群
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所
• 主分類號: C08G61/12
• 分類號: C08G61/12;C07D519/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，該方法為：將具有通式I和通式II所示結構的噻吩類衍生物單體與Pd催化劑、配體以及堿溶于有機溶劑中，然后優選于80~150℃的溫度條件下反應聚合，得到具有通式III所示結構的目標產物；

…式I，…式II，…式III，

其中：R₁至少選自直鏈或支鏈烷基酯基和直鏈或支鏈烷基羰基中的任意一種，R₂至少選自直鏈或支鏈烷氧基和直鏈或支鏈烷基中的任意一種，X為H或F原子，Y、Z至少選自鹵素原子和H原子中的任意一種，但前提是：當Y為鹵素時Z為H，而當Z為鹵素時Y為H，n為重復單元數目，n≥1。

2.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述Pd催化劑至少選自Pd(OAc)₂、Pd(OAc)(o-tol)、Pd₂(dba)₃和Pd(PPh₃)Cl₂中的任意一種。

3.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述配體至少選自PPh₃、PCy₃、P(o-methoxyphenyl)₃、P(o-tolyl)₃和P(m-tolyl)₃中的任意一種。

4.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述的堿優選采用無機堿。

5.根據權利要求4所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述無機堿至少選自CsF、K₂CO₃、Cs₂CO₃和Ag₂CO₃中的任意一種。

6.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述有機溶劑至少選自四氫呋喃、甲苯、1,4-二氧六環、N,N-二甲基甲酰胺、氯苯中的任意一種。

7.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，該方法中，聚合反應的時間優選為24~72h。

8.根據權利要求1所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，該方法中在聚合反應完成之后，還對混合反應物進行了常規后處理，其后將常規后處理所得產物依次以甲醇沉淀和索氏提取，得到目標產物；

所述常規處理包括依次進行的萃取、洗滌、干燥和減壓除去溶劑的工序。

9.根據權利要求8所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述常規后處理具體為：將混合反應物經過二氯甲烷萃取后，收集有機相依次進行鹽洗、水洗、干燥，而后減壓除去溶劑。

10.根據權利要求8所述的窄帶隙聚噻吩類衍生物的合成方法，其特征在于，所述的索氏提取法具體為：依次采用甲醇、正己烷、三氯甲烷對常規后處理所得產物進行提取，最終收集三氯甲烷組分，減壓除去溶劑并真空干燥，得到目標產物。