[發明專利]局部曝光方法以及局部曝光裝置

有效

• 申請號: 201210069291.0
• 申請日: 2012-03-15
• 公開（公告）號: CN102681356A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 森山茂;田中茂喜;尾上幸太朗
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種局部曝光方法，在將基板以水平狀態進行水平方向輸送的基板輸送路徑的上方，將由在與基板輸送方向交叉的方向上線狀地排列的多個發光元件中的一個或者多個發光元件構成的發光體作為發光控制單位而選擇性地進行發光驅動，通過上述發光體對在上述發光體的下方沿基板輸送方向相對于上述發光體移動的上述基板上的感光膜實施曝光處理，該局部曝光方法的特征在于，具備以下步驟：

目標照度計算步驟：針對在上述基板上形成的感光膜的規定區域，根據其膜厚來求出要照射的目標照度；

發光體確定步驟：確定能夠照射到上述規定區域的至少一個發光體；

設定照度計算步驟：針對所確定的一個發光體，在與該一個發光體相鄰的其它發光體能夠照射到上述規定區域內的情況下，從上述目標照度中減去由上述其它發光體的發光引起的干涉光的照度，并將所算出的值設為校正后的設定照度；以及

驅動電流值確定步驟：根據校正后的上述設定照度來決定驅動電流值，根據該驅動電流值使上述一個發光體發光。

2.根據權利要求1所述的局部曝光方法，其特征在于，

在上述驅動電流值確定步驟中，

將校正后的上述設定照度代入到在僅使上述一個發光體發光的情況下在該一個發光體的照射區域內測量得到的照度與施加到該一個發光體的驅動電流值之間的關系式中，由此算出上述驅動電流值。

3.根據權利要求1或2所述的局部曝光方法，其特征在于，

在上述設定照度計算步驟中，

根據在僅使上述其它發光體發光的情況下在上述一個發光體的照射區域內測量得到的照度與施加到上述其它發光體的驅動電流值之間的關系式來算出由與上述一個發光體相鄰的其它發光體的發光產生的干涉光的照度。

4.根據權利要求1或2所述的局部曝光方法，其特征在于，

在上述設定照度計算步驟包括以下步驟：

第一步驟，根據校正后的上述設定照度來算出由上述其它發光體的發光產生的干涉光的照度；

第二步驟，從上述目標照度中減去在上述第一步驟中算出的干涉光的照度，將所算出的該值更新為新校正后的設定照度；以及

反復步驟，將上述第一步驟和上述第二步驟反復進行規定次數。

5.一種局部曝光裝置，其構成為在將基板以水平狀態進行水平方向輸送的基板輸送路徑的上方，將由在與基板輸送方向交叉的方向上線狀地排列的多個發光元件中的一個或者多個發光元件構成的發光體作為發光控制單位而選擇性地進行發光驅動，通過上述發光體對在上述發光體的下方沿基板輸送方向相對于上述發光體移動的上述基板上的感光膜實施曝光處理，該局部曝光裝置的特征在于，具備：

目標照度計算單元，其針對在上述基板上形成的感光膜的規定區域，根據其膜厚來求出要照射的目標照度；

發光體確定單元，其確定能夠照射到上述規定區域的至少一個發光體；

設定照度計算單元，其針對所確定的一個發光體，在與該發光體相鄰的其它發光體能夠照射到上述規定區域內的情況下，從上述目標照度中減去由上述其它發光體的發光引起的干涉光的照度，并將所算出的值設為校正后的設定照度；以及

驅動電流值確定單元，其根據校正后的上述設定照度來決定驅動電流值，根據該驅動電流值使上述一個發光體發光。

6.根據權利要求5所述的局部曝光裝置，其特征在于，

上述驅動電流值確定單元將校正后的上述設定照度代入到在僅使上述一個發光體發光的情況下在該一個發光體的照射區域內測量得到的照度與施加到該一個發光體的驅動電流值之間的關系式中，由此算出上述驅動電流值。

7.根據權利要求5或6所述的局部曝光裝置，其特征在于，

上述設定照度計算單元根據在僅使上述其它發光體發光的情況下在上述一個發光體的照射區域內測量得到的照度與施加到上述其它發光體的驅動電流值之間的關系式來算出由與上述一個發光體相鄰的其它發光體的發光產生的干涉光的照度。

8.根據權利要求5或6所述的局部曝光裝置，其特征在于，

上述設定照度計算單元具備：

第一部件，其根據校正后的上述設定照度來算出由上述其它發光體的發光產生的干涉光的照度；

第二部件，其從上述目標照度中減去由上述第一部件算出的干涉光的照度，將所算出的該值更新為新校正后的設定照度；以及

反復部件，其將上述第一部件和上述第二部件的動作反復執行規定次數。