[發(fā)明專利]一種無醇單晶硅制絨添加劑無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210069182.9 | 申請日： | 2012-03-15 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102586888A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 屈盛 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州先拓光伏科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C30B33/10 | 分類號(hào)： | C30B33/10;C23F1/32;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215101 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 單晶硅 添加劑 | ||
1.一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于它的配方組份為：檸檬酸(或檸檬酸鈉)、十二烷基苯磺酸鈉和去離子水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于所述的檸檬酸(或檸檬酸鈉)濃度在1.0wt％-5.0wt％之間，所述的十二烷基苯磺酸鈉濃度在0.1wt％-5.0wt％之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于單晶硅片的絨面制作時(shí)，不需要使用異丙醇或乙醇等醇類。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于單晶硅片的絨面制作時(shí)，可以獲得均勻、細(xì)小、密集的絨面金字塔，金字塔尺寸在1-5μm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于單晶硅片的絨面制作時(shí)，需要將其加入到硅片的腐蝕液中，其所占腐蝕液的體積比例為0.1v/v％-2.0v/v％之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于單晶硅片的絨面制作時(shí)，硅片的腐蝕液為氫氧化鈉或氫氧化鉀的水溶液，而且氫氧化鈉(鉀)的濃度在0.5wt％-2.0wt％之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于單晶硅片的絨面制作時(shí)，腐蝕液的溫度在70℃-85℃之間，硅片的腐蝕時(shí)間在15-30分鐘之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于大批量單晶硅片的絨面制作時(shí)，每批制絨后，可以根據(jù)絨面金字塔的情況，適量補(bǔ)充或不補(bǔ)充。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無醇單晶硅制絨添加劑，其特征在于其應(yīng)用于大批量單晶硅片的絨面制作時(shí)，每批制絨后，需要往腐蝕液中適量補(bǔ)充氫氧化鈉或氫氧化鉀。
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