[發明專利]真空鍍膜用布氣系統

無效

• 申請號: 201210067836.4
• 申請日: 2012-03-14
• 公開（公告）號: CN102586739A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 朱殿榮;曹俊
• 申請（專利權）人: 無錫康力電子有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C16/455
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 夏平

技術領域

?本發明涉及真空鍍膜領域，尤其是一種真空室的布氣系統，具體地說是一種能均勻布氣的真空鍍膜用布氣系統。

背景技術

在真空鍍膜行業中，考證產品質量的一個重要指標是鍍膜均勻性，影響其主要的因素是電場、磁場以及真空室的布氣系統，如圖1所示，傳統的布氣管道是以6mm的不銹鋼管按一定間隔鉆孔，然后平行于靶面安裝，理論要求是各出氣口壓力均等，但在布氣過程中，總是接近管道進氣口的壓力要高于遠端壓力，這樣由于布氣的不均勻造成了鍍膜品質的下降。為了達到布氣的均勻，我們必須克服管道進氣口與遠端的壓力差。

發明內容

本發明的目的是針對目前真空室的布氣系統中，管道進氣口與遠端存在壓力差，布氣不均勻，造成鍍膜品質不高的問題，提出一種真空鍍膜用布氣系統，通過二次布氣達到了布氣的均勻性，在使用過程中，通過對鍍膜均勻性的檢測，取得了良好的效果。

本發明的技術方案是：

一種真空鍍膜用布氣系統，它包括套裝的第一布氣管、第二布氣管和隔片，所述的第一布氣管上設有多個第一出氣孔，第二布氣管上，平行于真空鍍膜靶面的一側設有多個第二出氣孔，第一布氣管和第二布氣管的兩端封閉，第一布氣管的一側為進氣孔，隔片橫向或斜向設置在第二布氣管內，使得第二布氣管形成兩腔體，隔片的兩端與第二布氣管有一定縫隙，第一布氣管安裝在第二布氣管內背向真空鍍膜靶面的腔體內。

本發明的隔片為一薄板，該隔片斜向安插在第二布氣管中。

本發明的隔片與水平面呈45度設置。

本發明的第二布氣管為一方形管，第一布氣管為一圓形管。

本發明的方形管的尺寸為15×15mm。

本發明的第一布氣管上均勻設置多個第一出氣孔，所述的第一出氣孔的孔徑為3mm。

本發明的第二布氣管上均勻設置多個第二出氣孔，所述的第二出氣孔的孔徑為0.5mm。

本發明的有益效果：

本發明通過二次布氣，達到了布氣的均勻性，在使用過程中，通過對鍍膜均勻性的檢測，取得了良好的效果。

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附圖說明

圖1是傳統布氣系統的結構示意圖。

圖2是本發明的布氣系統的結構示意圖。

圖3是本發明的布氣系統的剖面結構示意圖。

圖中：1、第一布氣管；2、第二布氣管；3、隔片；

4、第一出氣孔；5、第二出氣孔；6、進氣孔。

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具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的說明。

如圖2、3所示，一種真空鍍膜用布氣系統，它包括套裝的第一布氣管1、第二布氣管2和隔片3，所述的第一布氣管1上設有多個第一出氣孔4，第二布氣管2上，平行于真空鍍膜靶面的一側設有多個第二出氣孔5，第一布氣管1和第二布氣管2的兩端封閉，第一布氣管1的一側為進氣孔6，隔片3橫向或斜向設置在第二布氣管2內，使得第二布氣管2形成兩腔體，隔片3的兩端與第二布氣管2有一定縫隙，第一布氣管1安裝在第二布氣管2內背向真空鍍膜靶面的腔體內。

本發明的隔片3為一薄板，該隔片3斜向安插在第二布氣管2中；所述的隔片3與水平面呈45度設置。

本發明的第二布氣管2為一方形管，第一布氣管1為一圓形管；所述的方形管的尺寸為15×15mm。

本發明的第一布氣管1上均勻設置多個第一出氣孔4，所述的第一出氣孔4的孔徑為3mm；第二布氣管2上均勻設置多個第二出氣孔5，所述的第二出氣孔5的孔徑為0.5mm。

具體實施時：

本發明利用15*15mm的方管沿對角線插入一片薄板，將方管隔離成2個腔室，兩端封閉。按原有的布氣方式將壓力不平衡的氣體布入方管的第一個腔體，然后由薄板縫隙間將氣體均勻的溢流至第二個腔體，在第二個腔體平行于靶面的方向用激光穿0.5mm均勻排布的出氣孔，通過2次布氣，達到了布氣的均勻性，在使用過程中，通過對鍍膜均勻性的檢測，取得了良好的效果。

本發明未涉及部分均與現有技術相同或可采用現有技術加以實現。