[發(fā)明專利]平面移動靶機構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210067553.X | 申請日: | 2012-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN102586750A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱殿榮;曹俊 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫康力電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
| 地址: | 214253 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平面 移動靶 機構(gòu) | ||
1.一種平面移動靶機構(gòu),其特征是它包括框架(1)、往返傳動機構(gòu)(2)、兩直線導軌機構(gòu)(3)、極靴(4)、永磁鐵(5)和位于真空箱體(9)內(nèi)的陰極(6)和靶材(8),所述的往返傳動機構(gòu)(2)安裝在框架(1)的中部,兩直線導軌機構(gòu)(3)分別安裝在框架(1)的上下部分,兩直線導軌機構(gòu)(3)上分別裝有至少一個滑塊(10),極靴(4)安裝在往返傳動機構(gòu)(2)的中部,極靴(4)的上、下兩端分別固定在兩直線導軌機構(gòu)(3)的滑塊(10)上,永磁鐵(5)安裝在極靴(4)上,在永磁鐵(5)上方的真空箱體(9)底部安裝陰極(6),靶材(8)安裝在陰極(6)的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動靶機構(gòu),其特征是所述的陰極(6)為銅背板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動靶機構(gòu),其特征是所述的陰極(6)的內(nèi)部裝有冷卻水管(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動靶機構(gòu),其特征是所述的滑塊(10)為四個,、兩直線導軌機構(gòu)(3)上分別安裝兩個滑塊(10),極靴(4)的四角分別固定在四個滑塊(10)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動靶機構(gòu),其特征是所述的永磁鐵(5)為三根,均為排布在極靴(4)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面移動靶機構(gòu),其特征是所述的往返傳動機構(gòu)(2)包括伺服電機(11)和滾珠絲杠(12),由伺服電機(11)帶動固定在滾珠絲杠(12)上的極靴(4)作勻速往返運動。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





