[發(fā)明專利]渦旋式壓縮機

有效

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• 申請日: 2012-03-09
• 公開（公告）號: CN102678550A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設計）人: 成相勛;金哲歡;李丙哲;河三喆
• 申請（專利權）人: LG電子株式會社
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 馮志云;鄭小軍

技術領域

本發(fā)明涉及一種渦旋式壓縮機，尤其是涉及該渦旋式壓縮機的固定渦盤與繞動渦盤的構造，該構造能夠獲得充分的壓縮比。

背景技術

渦旋式壓縮機是包括具有固定渦卷的固定渦盤和具有與該固定渦卷接合的繞動渦卷的繞動渦盤的壓縮機。在這種渦旋式壓縮機的構造中，隨著繞動渦盤在固定渦盤上執(zhí)行繞動運動，形成在固定渦卷與繞動渦卷之間的壓縮室的容積連續(xù)地變化，由此吸入并壓縮制冷劑。

渦旋式壓縮機能夠連續(xù)地執(zhí)行吸入、壓縮和排放，因此與其它類型的壓縮機相比，其在操作期間產生的振動和噪聲的方面非常受歡迎。

渦旋式壓縮機的性能可取決于固定渦卷與繞動渦卷的形狀。固定渦卷和繞動渦卷可具有任意的形狀，但是通常它們具有容易制造的漸開線形狀。漸開線指的是這樣一種曲線：當展開繞具有預定直徑的基圓纏繞的螺旋線(thread)時，對應于由螺旋線形的端部繪出的軌跡。當使用這種漸開線時，卷具有一致的厚度，并將壓縮室響應于繞動渦盤的旋轉角度的容積變化率維持為恒定。因此，卷的圈數應增大，以獲得充分的壓縮比，然而，這樣可造成壓縮機的尺寸相應于卷的圈數的增加而增大。

繞動渦盤通常包括盤部，繞動渦卷位于該盤部的一側。在盤部的與形成繞動渦卷的一側相反的后表面上形成凸臺(boss)。該凸臺連接到轉軸，如此允許繞動渦盤執(zhí)行繞動運動。這種繞動渦卷在盤部的一側而凸臺在盤部的另一側的設置允許繞動渦卷形成在盤部的幾乎整個表面上，由此減小盤部的直徑以便獲得特定的壓縮比。然而，與制冷劑在固定渦卷與繞動渦卷之間被壓縮的力相反的驅動力作用在凸臺處的作用點，與渦卷垂直地隔開。因為凸臺與繞動渦卷不在相同平面的相同表面上，所以在操作期間繞動渦卷傾斜，由此產生更大的振動和噪聲。

發(fā)明內容

為了克服背景技術的缺陷，本發(fā)明提供一種能夠在減小壓縮機的整體尺寸的同時確保充分的壓縮比的渦旋式壓縮機。本發(fā)明的繞動渦盤構造為使得繞動渦卷和轉軸的聯接部位于相同平面上的相同表面。這種設置允許制冷劑的斥力以及反作用力作用在相同平面，以便解決背景技術的繞動渦盤的傾斜問題。

因為轉軸一直延伸到繞動渦卷，所以轉軸的端部位于繞動渦卷的中心部，這在背景技術中被用作壓縮室。因此，為獲得充分的壓縮比，使固定渦卷和繞動渦卷具有獨特的構造。

在一個示例性實施例中，渦旋式壓縮機包括：固定渦盤，其具有固定渦卷；繞動渦盤，其具有繞動渦卷，該繞動渦卷構造為與該固定渦卷一同限定位于外側表面和內側表面中的第一壓縮室和第二壓縮室，該繞動渦盤相對于該固定渦盤執(zhí)行繞動運動；轉軸，其一端具有偏心部，該偏心部聯接于繞動渦以使兩者在側向上相互重疊；以及驅動單元，其構造為用以驅動該轉軸。

根據本發(fā)明的一個方案，第一壓縮室限定在固定渦卷的內側表面與繞動渦卷的外側表面的接觸而產生的兩個接觸點P₁、P₂之間，其中，若由將偏心部的中心O分別連接到兩個接觸點P₁、P₂的兩條直線所限定的角度中的更大的角度為α，則至少在排放操作之前α＜360°。

另外，如果兩個接觸點P₁、P₂處的法線之間的距離為l，則l＞0。而且，在兩個接觸點P₁、P₂處繪出的法線可彼此不同。

轉軸聯接部可穿過繞動渦卷的中心部而形成。該轉軸聯接部的外周面可限定繞動渦卷的一部分并與該轉軸聯接部內的偏心部聯接。如果該第一壓縮室位于轉軸聯接部的該外周面，則α＜360°且l＞0。

第二壓縮室可接觸該轉軸聯接部的外周面并沿繞動渦卷的內周面向內移動，隨后與第一壓縮室相通。

轉軸可包括：連接到驅動單元的軸部、在該軸部的一端與軸部同心地形成的銷部、以及偏心地插入該銷部的偏心軸承。該偏心軸承可旋轉地聯接于該轉軸聯接部。銷部可以不對稱方式形成。

根據本發(fā)明的另一方案，如果在排放開始(操作)時第一壓縮室的內接觸點是P₃，在開始排放操作之前的150°，該第一壓縮室的內接觸點是P₄，則隨著從P₃向P₄移動，則固定渦卷的厚度減小并隨后增大。固定渦卷在P₃與該固定渦卷的內端部之間可具有最大厚度。