[發明專利]一種旋轉可調α源照射裝置

有效

• 申請號: 201210064552.X
• 申請日: 2012-03-13
• 公開（公告）號: CN102604829A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 吳杰鋒;劉志宏;薛延河;陳建林;張懷斌;商明明
• 申請（專利權）人: 合肥聚能電物理高技術開發有限公司
• 主分類號: C12M1/42
• 分類號: C12M1/42
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

技術領域

本發明涉及一種一種旋轉可調α源照射裝置，它用于研究粒子在細胞中的輻射效應以及其機理。

背景技術

隨著科技的發展，環境中低劑量、低劑量率輻射的危害性越來越受到人們的重視。按照D.Brenner的計算，人體所受到的氡氣及其子代放射的α粒子的輻射占人體所受總環境輻射量的55％，為了研究α粒子的輻射效應及其機理，輻射生物學家研制了各種各樣的α源照射裝置，目前可分為通過加速器產生的α粒子和通過放射性源產生的α粒子等兩種方式。前者的優點是可進行不同劑量、劑量率和LET照射，照射劑量準確，可控性好，但造價昂貴。后者造價便宜，對技術要求相對較低，但這種裝置由于采用快門控制的劑量照射方式，很難達到我們對低劑量和低劑量率照射的要求。因此需要一種能夠對照射劑量進行準確控制的α粒子照射裝置。

發明內容

本發明的目的是為了彌補已有技術的不足，提供了一種旋轉可調α源照射裝置，解決了已有的α源照射裝置，不能同時具有造價便宜，可進行不同劑量，劑量率和LET照射，照射劑量準確，可控性好等性能。

本發明是通過以下技術方案來實現的：

一種旋轉可調α源照射裝置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架設有回轉平臺，所述回轉平臺上設有多個樣品培養皿，所述回轉平臺下方的支架上架設有可升降的α源照射機構，所述回轉平臺由電機驅動。

所述的樣品培養皿為圓形，且均布在回轉平臺上。

所述的可升降的α源照射機構包括有固定板，所述固定板上安裝有α放射源，所述固定板下端固定安裝有導桿，所述導桿的底端固定安裝在螺母固定座上，所述螺母固定座的移動通過電機帶動精密滾珠絲杠驅動。

所述的固定板下方的支架上設置有定位板，所述定位板中部設有定位孔，所述定位孔中有所述導桿穿過。

旋轉可調α源照射裝置在實驗過程中將需要進行照射的物體放置在樣品臺的培養皿中，其原理是根據其所需要的輻射量的大小進行放射源高度，樣品臺轉速以及粒子出口角度的調節；通過調節放射源高度，樣品臺轉速，粒子出口角度等方式對細胞所受輻射的劑量進行調節。放射源的升降運動是通過底端的精密滾珠絲杠完成，最大調節量為137mm，位置精度為0.05mm。樣品平臺的由伺服電機帶動減速器而實現的，因此可對平臺的旋轉速度進行精確調節。粒子出口處的狹縫模板可以替換，從而保證其出口角度可在1～7度之間進行變換。

所述的樣品臺一次可放置多組樣品，樣品臺通過伺服電機帶動蝸輪蝸桿減速器的方式沿進行旋轉，從而使樣品依次通過α源的出口進行照射，通過調整伺服電機的轉速從而可對樣品單位時間內通過α源的照射次數進行調節。α源的照射出口處縫隙大小由專用模板控制，可以通過更換模板的方式對粒子的出口角度進行調節。因此，通過以上三種方式均可對對細胞所受輻射的劑量進行調節。

本發明的優點是：

本發明設計合理，通過調節放射源高度，樣品臺轉速，粒子出口角度等方式對細胞所受輻射的劑量進行調節，具有造價便宜，可進行不同劑量，劑量率和LET照射，照射劑量準確，可控性好等性能。

附圖說明

圖1為本發明主剖視圖。

圖2為本發明俯視圖。

具體實施方式

參見附圖，一種旋轉可調α源照射裝置，包括有支架1，支架1上架設有回轉平臺2，回轉平臺2上設有多個樣品培養皿3，回轉平臺2下方的支架1上架設有可升降的α源照射機構4，回轉平臺4由電機5驅動；所述的樣品培養皿3為圓形，且均布在回轉平臺2上；所述的可升降的α源照射機構4包括有固定板6，固定板6上安裝有α放射源7，固定板6下端固定安裝有導桿8，導桿8的底端固定安裝在螺母固定座11上，螺母固定座11的移動通過電機帶動精密滾珠絲杠9驅動；所述的固定板6下方的支架上設置有定位板10，定位板10中部設有定位孔，所述定位孔中有導桿8穿過。