[發明專利]用于小型熔斷器的滅弧玻璃制造方法有效
| 申請號: | 201210064531.8 | 申請日: | 2012-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN102610449A | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發明(設計)人: | 馮波;張甦;龔建;仇利明 | 申請(專利權)人: | 蘇州晶訊科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H69/02 | 分類號: | H01H69/02 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡 |
| 地址: | 215163 江蘇省蘇州市高*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 小型 熔斷器 玻璃 制造 方法 | ||
1.一種用于小型熔斷器的滅弧玻璃制造方法,所述小型熔斷器由兩個接線端子、陶瓷片、熔體和滅弧玻璃層(1)組成,所述熔體位于陶瓷片表面,兩個接線端子分別與熔體兩端電連接,滅弧玻璃層(1)覆蓋于所述熔體表面,其特征在于:所述滅弧玻璃層(1)為一滅弧玻璃片,此滅弧玻璃片(1)由硼硅酸鉛玻璃組成,該滅弧玻璃片(1)與所述熔體接觸的表面具有若干微納米孔洞(2),該滅弧玻璃片(1)通過以下步驟獲得:
步驟一、在所述滅弧玻璃片(1)表面通過旋涂涂覆一壓印膠層(3);
步驟二、將下表面具有若干微納米直徑的凸點(4)的模具(5)壓在所述壓印膠層(3)上,此時,所述模具下表面與涂覆感光膠層接觸,所述凸點的直徑為20~500nm,高寬比為1:1~10;通過熱壓法或者紫外感光法使壓印膠層固化。
2.步驟三、將步驟二中所述模具(5)從壓印膠層(3)表面移除;
步驟四、采用干法離子刻蝕方法刻蝕經步驟三的所述滅弧玻璃片(1),從而在此滅弧玻璃片(1)表面形成若干所述微納米孔洞(2),此微納米孔洞(2)的直徑為20~500nm;
步驟五、清洗去除殘留的所述壓印膠層(3)。
3.根據權利要求1所述的滅弧玻璃制造方法,其特征在于:所述壓印膠層(3)由聚甲基丙烯酸甲酯組成。
4.根據權利要求1所述的滅弧玻璃制造方法,其特征在于:所述微納米孔洞(2)之間的間隔為45~600nm。
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