[發明專利]一種改進的P-RC APMP新流程

無效

• 申請號: 201210064386.3
• 申請日: 2012-03-13
• 公開（公告）號: CN102561080A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 周小凡;徐家祥;馬金霞
• 申請（專利權）人: 南京林業大學
• 主分類號: D21B1/02
• 分類號: D21B1/02;D21B1/34;D21C3/02;D21D1/20;D21C9/16;D21C9/18;D21D5/02;D21C9/02
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1.一種改進的P-RC?APMP新流程，其新流程特征在于：

1)木片洗滌：將長度15～20mm、厚度3～5mm、寬度小于10mm的木片經水洗滌去除泥沙；

2)木片脫水、擠壓撕裂：使用斜螺旋脫水機使木片干度達到35～40％；利用壓縮比為1∶4.0的擠壓撕裂機將木片擠壓成木絲狀；

3)一段浸漬：將擠壓后木片浸漬于含有螯合劑(DTPA)、硫酸鎂、硅酸鈉、占總用量20～40％的堿性過氧化氫溶液，進入反應倉反應30～60min；

4)一段高濃磨漿：反應倉后漿料在35～40％的濃度下進行一次高濃磨漿；

5)高濃漂白塔：磨后漿進入高濃混合器與含有螯合劑(DTPA)、硫酸鎂、硅酸鈉、占總用量60～80％的堿性過氧化氫溶液混合，進入漂白塔反應1.5～2.0h，漂白濃度在30～35％；

6)三臺或四臺串聯雙螺旋擠漿機提取廢液：漂白后漿使用三臺或四臺串聯雙螺旋擠漿機提取廢液，每臺雙螺旋擠漿機的進口濃度在15％～25％，出口濃度在35％～40％，從最后一臺加入清水，廢液總提取率為80～95％，提取的廢液固形物含量為4.0～8.0％，廢液送堿回收處理；

7)消潛、低濃磨漿：漿料稀釋至濃度為3～6％進入消潛池，消潛后在2～4％的濃度下進行二次低濃磨漿；

8)篩選：磨后漿在2～4％的濃度下進行三段篩選；

9)洗滌：篩選后漿在1％～2％濃度下經過多盤洗漿機洗滌；

10)儲漿備用：將洗滌后漿料干度調至4.5～10％備用。