[發明專利]一種可改善Moiré條紋的像素結構及像素檢測方法

無效

• 申請號: 201210062708.0
• 申請日: 2012-03-07
• 公開（公告）號: CN102591082A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 何升儒;陳宛婷;吳信穎;曹正翰
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/13
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種可改善Moiré條紋的像素結構，其特征在于，該像素結構包括：

多條掃描線，被設置為沿水平方向延伸；

多條數據線，被設置為沿豎直方向延伸，并且與所述多條掃描線相正交；以及

一第一遮黑區域和一第二遮黑區域，所述第一遮黑區域與所述第二遮黑區域相對設置，并且分別位于所述數據線的兩側；

其中，所述第一遮黑區域與所述第二遮黑區域在水平方向上交錯排列。

2.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于，所述第一遮黑區域和所述第二遮黑區域均為黑矩陣。

3.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于，該像素結構還包括一像素電極，設置于所述第一和第二遮黑區域之間。

4.根據權利要求3所述的像素結構，其特征在于，該像素電極為一透明電極，并且所述透明電極采用ITO或ITZ材料制成。

5.根據權利要求3所述的像素結構，其特征在于，所述像素電極呈“Z”型結構。

6.根據權利要求1所述的像素結構，其特征在于，所述像素結構適用于一3D液晶面板。

7.一種可改善Moiré條紋的像素檢測方法，其特征在于，該像素檢測方法包括以下步驟：

a)檢測藉由像素結構中的棱鏡所看到的多個遮黑區；

b)計算所述多個遮黑區中的位置種類數目P以及所述多個遮黑區中位置種類之間的差異數目N；

c)根據上述位置種類數目P和差異數目N，調整所述像素結構的遮黑區位置；

d)重復上述步驟a)～c)，直至Moiré條紋達到液晶面板的預設規格。

8.根據權利要求7所述的像素檢測方法，其特征在于，在上述步驟a之前，該像素檢測方法還包括：

將分別位于數據線兩側的一遮黑區域和另一遮黑區域在水平方向上交錯排列。

9.根據權利要求7所述的像素檢測方法，其特征在于，所述位置種類數目P和差異數目N越小，Moiré條紋越輕微。

10.根據權利要求7所述的像素檢測方法，其特征在于，所述位置種類數目P小于或等于5。