[發明專利]決定方法和計算機

有效

• 申請號: 201210061014.5
• 申請日: 2012-03-09
• 公開（公告）號: CN102681354A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 行田裕一;辻田好一郎
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李穎

技術領域

本發明涉及用于決定曝光裝置中的曝光條件的決定方法和計算機。

背景技術

在使用曝光裝置的曝光步驟中，一般要求基于希望的圖像特性來轉印向諸如晶片的基板的表面施加的光刻膠(抗蝕劑)，并且在焦點和曝光量等的變化(誤差)的情況下幾乎不改變圖像特性。在日本專利公開No.2008-166777、T.Matsuyama等人，“A?Study?of?Source?&Mask?Optimization?for?ArF?Scanners”，Proc.of?SPIE，USA，SPIE，2009，Vol.7274，p.727408(文獻1)、以及Linyong?Pang等人，“Optimization?from?Design?Rules，Source?and?Mask，to?Full?Chip?with?a?Single?Computational?Lithography?Framework：Level-Set-Methods-based?Inverse?Lithography?Technology(ILT)”，Proc.of?SPIE，USA，SPIE，2010，Vol.7640，p.764000(文獻2)中，已提出最優化(決定)曝光裝置中的曝光條件的技術。圖像特性包括例如圖像的尺寸和形狀、對比度、圖像尺寸的對于曝光量的裕度(margin)、以及圖像尺寸的對于焦點的裕度。曝光條件包括有效光源的形狀(在照明光學系統的光瞳面(pupil?plane)上形成的光強度分布)、投影光學系統的數值孔徑(NA)和像差、布置于投影光學系統的物體面上的掩模的圖案(尺寸和形狀)、以及掩模的透射率。

當最優化曝光條件時，關于有效光源或掩模圖案，搜索用戶關注的目標，例如對于特定圖像的線寬的焦點深度(DOF)最大化的條件。注意，曝光條件最優化不限于搜索用于增加DOF的曝光條件。例如，如果曝光裝置的投影光學系統的像差總是變化，那么希望搜索抑制這種像差變化的影響的曝光條件。對于曝光量的波動小的曝光裝置，希望搜索曝光條件以獲得焦點深度(對于焦點的裕度)而不是曝光量的裕度。如果曝光裝置的階段(stage)大大地振動，那么希望搜索圖像特性對于階段振動幾乎不改變的曝光條件。即，對于曝光條件最優化存在更廣泛的需要，并且，各種類型的曝光條件被最優化。

在曝光條件最優化中，一般地，事先設定評價項目(例如，DOF、NILS或線寬)，并且，最優化曝光條件，使得評價項目的值(評價量)滿足標準。對于評價量優選地盡可能大的諸如DOF或NILS(歸一化圖像對數傾斜，Normalized?Image?Log?Slope)之類的評價項目，最優化曝光條件意味著將評價量最大化。另一方面，對于評價量優選地盡可能小的諸如線寬誤差之類的評價項目，最優化曝光條件意味著將評價量最小化。更具體而言，通過在給定的曝光條件(限定有效光源的形狀或掩模圖案的形狀的參數)下獲得評價量并且根據評價量改變曝光條件(重復地改變曝光條件)，執行曝光條件最優化。曝光條件改變方法依賴于數學方法或算法，并且各種各樣的方法已被提出。以下，關注評價項目(評價量)將被稱為最優化成本(cost)。注意，最優化成本有時被稱為價值函數(merit?function)或度量(metric)，或者簡稱為成本或價值。

在現有技術中，關注評價項目被直接設定為最優化成本。例如，在日本專利公開No.2008-166777中，線寬(CD)均勻性(uniformity)等被設定為最優化成本，并且，最優(optimum)有效光源形狀被獲得。在文獻1中，共同處理窗口或OPE特性(線寬)被設定為最優化成本，并且，最佳有效光源形狀或掩模圖案被獲得。在文獻2中，邊緣布局(placement)誤差被設定為最優化成本，并且，曝光條件被最優化。

但是，本發明的發明人發現，在現有技術中，由于關注評價項目被直接設定為最優化成本，因此，在一些情況下，曝光條件不能被最優化。

在現有技術中，如上所述，在改變曝光條件的同時獲得最優化成本值，并且，基于最優化成本值的變化決定改變曝光條件的方向，由此使得曝光條件逐漸收斂于最佳條件。因此，每當曝光條件改變時，最優化成本值改變是重要的。