[發(fā)明專利]X線分析裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210061012.6
• 申請(qǐng)日: 2012-03-09
• 公開（公告）號(hào): CN102680505A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 坂井范昭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工電子納米科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N23/223
• 分類號(hào): G01N23/223
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種X線分析裝置，其特征在于，該X線分析裝置具有：

載置試料的試料臺(tái)；

能夠移動(dòng)該試料臺(tái)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)；

放射線源，其向所述試料上的任意照射點(diǎn)照射1次放射線；

X線檢測部，其在檢測從所述試料釋放的特性X線及散射X線的同時(shí)，輸出包含該特性X線及散射X線的能量信息的信號(hào)；

分析部，其與所述X線檢測部連接，對(duì)所述信號(hào)進(jìn)行分析；

圖像獲取部，其獲取所述試料的圖像數(shù)據(jù)；

分析處理部，其與所述分析部連接，判別與特定元素對(duì)應(yīng)的X線強(qiáng)度；

X線映射處理部，其根據(jù)該分析處理部的判別結(jié)果確定與所述X線強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的基于顏色和/或亮度的強(qiáng)度對(duì)比度，執(zhí)行X線映射，對(duì)該映射像與所述圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行重疊處理，確定與所述照射點(diǎn)相應(yīng)的位置；

顯示部，其根據(jù)該X線映射的結(jié)果進(jìn)行圖像顯示；以及

區(qū)域指定單元，其在該顯示的圖像上指定測定實(shí)施區(qū)域，獲取測定區(qū)域信息，

所述試料移動(dòng)機(jī)構(gòu)在所述指定的區(qū)域以外的區(qū)域中，以比所述指定的區(qū)域高的速度移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述區(qū)域指定單元能夠進(jìn)行利用預(yù)先存儲(chǔ)在所述X線映射處理部中的所述試料的圖紙數(shù)據(jù)的區(qū)域指定。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述圖像獲取部預(yù)先獲取光學(xué)觀察像或電子線觀察像作為所述試料的圖像數(shù)據(jù)，能夠存儲(chǔ)并利用該圖像數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述X線映射處理部具有存儲(chǔ)與已處理過的試料有關(guān)的所述測定區(qū)域信息的數(shù)據(jù)保存部，能夠在進(jìn)行其它試料的分析時(shí)再次利用該測定區(qū)域信息。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述X線映射處理部對(duì)于在其它試料的分析時(shí)新獲取的圖像數(shù)據(jù)，使用所述測定區(qū)域信息，通過旋轉(zhuǎn)校正、位置校正及比例校正，正確地識(shí)別測定實(shí)施區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述區(qū)域指定單元對(duì)測定區(qū)域的指定是將全部映射區(qū)域分割為任意的單元數(shù)，以該單元為單位進(jìn)行區(qū)域指定。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X線分析裝置，其特征在于，

所述測定區(qū)域信息是測定試料自身的粗略測定的X線映射像。