[發(fā)明專利]一種用于礦物掃描分析的高光譜成像儀無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210058888.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-03-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103308453A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李晶;王宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 王宏 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25;G01J3/45 |
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| 地址: | 100070 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 礦物 掃描 分析 光譜 成像 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種礦物樣品分析高光譜成像光譜儀,適用于在礦業(yè)勘探或開(kāi)采過(guò)程中的礦物樣品分析以及巖芯掃描編錄過(guò)程,利用不同礦物的光譜頻段響應(yīng)特性,對(duì)巖石進(jìn)行高光譜掃描與分析,屬于高光譜成像探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
目前,用于野外勘探過(guò)程的高光譜分析儀大多為非成像型,分光元器件以光柵為主,采用單點(diǎn)測(cè)量分析方式,比較著名的是美國(guó)光譜分析設(shè)備公司(ASD)的FieldSpec系列近紅外光譜儀。而傳統(tǒng)的高光譜成像光譜儀則主要用于航空遙感及衛(wèi)星遙感,采用堆掃或是擺掃的方式,分光原理一般為棱鏡、光柵分光或者是基于邁克爾遜的時(shí)間調(diào)制型以及基于橫向剪切的空間調(diào)制型。這些成像光譜儀往往需要運(yùn)動(dòng)部件,體積和功耗都較大。不同于傳統(tǒng)的航空或衛(wèi)星遙感高光譜成像,用于礦石樣品掃描的高光譜成像儀,要求分辨率高,快速(靈敏度高)、高穩(wěn)定性和操作簡(jiǎn)便,可以根據(jù)光譜信息,直接用不同顏色或文字標(biāo)出樣品中所包含的不同的礦物種類,既能夠用于平時(shí)的礦物樣品掃描分析,也能用于巖芯的自動(dòng)掃描編錄過(guò)程。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種具有高通量,高信噪比,高穩(wěn)定,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的新型干涉成像光譜儀,并且將該干涉光譜技術(shù)用于直接的礦石成像分析與掃描。?
本發(fā)明的技術(shù)方法是:?
1.用光譜范圍覆蓋900-2500nm的燈光,如鹵鎢燈,經(jīng)匯聚后,在一定距離內(nèi)照射礦石樣品。?
2.對(duì)反射或散射光進(jìn)行收集和準(zhǔn)直,使入射到成像系統(tǒng)的光,成為平行光。?
3.采用Sagnac型分光法,Sagnac分光部分的設(shè)計(jì)如圖1,將入射光分為2束相干光,兩束光的光程差可表述為2πv.d。?
4.兩束完全相干的光在透鏡后焦平面的HgCdTe面陣探測(cè)器上形成干涉條紋。?
5.將面陣探測(cè)器輸出的的干涉圖像送入處理器,進(jìn)行傅里葉變換分析,最后得到樣品的高光譜圖像。?
為了保證光譜數(shù)據(jù)的精度,我們利用小型的固體激光器對(duì)光程差進(jìn)行定標(biāo)和修正。根據(jù)上述方法設(shè)計(jì)的干涉光譜儀,包含以下幾個(gè)部分:前置準(zhǔn)直模塊、Sagnac橫向剪切干涉光路模塊(如圖1)、光收集模塊、面陣探測(cè)器、信號(hào)處理系統(tǒng)組合而成。另外,在干涉光路前還設(shè)有定標(biāo)光路模塊,包括小型固體激光器、反射鏡組成。反射鏡是為了將激光引入干涉儀。同時(shí)當(dāng)定標(biāo)光路啟動(dòng)時(shí),位于前置光學(xué)系統(tǒng)的狹縫關(guān)閉,遮擋主光路的光線,這樣光路中就只有副光路的激光用于定標(biāo)。?
附圖及實(shí)施例:?
圖1為非對(duì)稱sagnac干涉光路,由4塊直角三角形的玻璃組成,第1和第2塊玻璃為完全相同的等邊直角三角形的玻璃,斜邊鍍半反半透分光膜,并粘合在一起。第3塊和第4塊玻璃同樣為完全相同的直角三角形,2個(gè)銳角分別為22.5度和67.5度,斜邊鍍反射膜,并分別如圖非對(duì)稱的放置在垂直光軸的一定距離處,即第3塊與第4塊玻璃,距離分束中心的距離不完全對(duì)稱,其差值為d。例如,第1塊玻璃距離分束中心O的距離為25mm,第2塊玻璃距離分束中心的距離為26mm,則d=1mm;則Sagnac干涉光路系統(tǒng)能夠?qū)⑷肷涔庋卮怪庇诠廨S方向同向剪切為相距為d的完全相干的2束光,他們的強(qiáng)度相同或相似。4塊玻璃可以方便的固定在方形容器內(nèi),通過(guò)直角放置,可以快速完成光路的調(diào)整。?
圖2為干涉高光譜成像光譜儀實(shí)施略圖,透鏡1和2,組成前置光學(xué)系統(tǒng),用于將目標(biāo)發(fā)出的光束進(jìn)行收集和準(zhǔn)直,在1和2之間,還放置有自動(dòng)狹縫,作為光闌,另外,當(dāng)啟動(dòng)定標(biāo)副光路時(shí),狹縫將自動(dòng)上移,遮閉主光路。圖中3、4即為副光路系統(tǒng),可用于干涉儀定標(biāo)和調(diào)整。3為小型固體激光器,4為反射鏡片。正常使用時(shí),固體激光器關(guān)閉,當(dāng)系統(tǒng)自檢以及調(diào)整時(shí),激光器打開(kāi),激光進(jìn)入干涉光譜儀,同時(shí)位于前置光學(xué)系統(tǒng)的自動(dòng)狹縫關(guān)閉主光路。干涉儀的標(biāo)定系統(tǒng)可以監(jiān)測(cè)震動(dòng)、溫度、污染等因素造成的光程差變化。收集光學(xué)系統(tǒng)6將剪切后的光束收集到后焦面的探測(cè)器上,并發(fā)生干涉,干涉條紋與剪切方向垂直。干涉的光程差與剪切量d以及探測(cè)器的距離和大小有關(guān)。光程差越大,光譜儀的分辨率越高。探測(cè)器7是干涉信號(hào)的接收器,探測(cè)器為HgCdTe面陣探測(cè)器,面陣探測(cè)器在使用前,需要對(duì)每個(gè)像元進(jìn)行線性標(biāo)定,用于光譜響應(yīng)度的修正;探測(cè)器獲取目標(biāo)的兩維空間信息以及一維光譜信息。信號(hào)處理系統(tǒng)?將得到的兩維空間圖像和像面干涉圖采集下來(lái),進(jìn)行傅里葉變換分析,從而得到每個(gè)目標(biāo)像元的高光譜圖像,同時(shí)依據(jù)在不同波長(zhǎng)下的高光譜圖像,對(duì)巖石樣品的不同礦物類型進(jìn)行辨識(shí),并以不同顏色和深淺進(jìn)行標(biāo)識(shí)。在整個(gè)系統(tǒng)中還集成了便攜的光源系統(tǒng),光源采用能夠覆蓋1000-2500nm的鹵鎢燈,燈光經(jīng)過(guò)匯聚后,照射待分析的礦石樣品。?
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G01 測(cè)量;測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





