[發明專利]含氟光纖基材的制造方法及含氟光纖基材

有效

• 申請號: 201210058782.5
• 申請日: 2012-03-08
• 公開（公告）號: CN102674682A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 浦田佑平
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: C03B37/014
• 分類號: C03B37/014;C03C13/00
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種含氟光纖基材的制造方法，經過由氯系氣體環境中將多孔質玻璃堆積體加熱處理而進行脫水的第一步驟、在含氟源的氣體環境中進行加熱處理而添加氟的第二步驟、在包含氟源的氣體環境中用比上述第二步驟高的溫度進行加熱處理，透明玻璃化的第三步驟構成的燒結步驟制造含氟光纖基材的方法；其特征在于，所述第一步驟、第二步驟及第三步驟的處理溫度分別依次為T1、T2、T3(k)，上述第二步驟及第三步驟的氟源氣體濃度，依次為C2、C3(％)，當參數Q用下列數學式1表達的時候，參數Q的值為Q＞0.14的范圍的處理溫度、氟源氣體濃度來制造。

Q＝C2×exp(-T2/T1)+C3×exp(-T3/T2)????數學式1

2.根據權利要求1所述的含氟光纖基材的制造方法，其中，上述第二步驟的上述氟源氣體濃度C₂為不小于上述第三步驟的上述氟源氣體濃度C₃的濃度。

3.根據權利要求1或2所述的含氟光纖基材的制造方法，其中，上述第一步驟的所述處理溫度T₁為不低于所述第二步驟的所述處理溫度T₂的溫度。

4.根據權利要求1所述的含氟光纖基材的制造方法，其中，上述參數Q的值為0.27以上。

5.一種含氟光纖基材，是通過權利要求1所述的制造方法得到的含氟光纖基材，其中，以石英級別作為基準，氟添加層在徑向的相對折射率差Δ的變動系數(標準偏差；算術平均)是0.03以內。