[發明專利]一種仿蚊子嘴空心微針陣列的制作方法無效
| 申請號： | 201210057371.4 | 申請日： | 2012-03-06 |
| 公開（公告）號： | CN102530848A | 公開（公告）日： | 2012-07-04 |
| 發明（設計）人： | 鄒赫麟;張水平;劉沖 | 申請（專利權）人： | 大連理工大學 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人： | 關慧貞;梅洪玉 |
| 地址： | 116024*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 蚊子 空心 陣列 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種仿蚊子嘴空心微針陣列的制作工藝，其特征在于如下步驟：
(1)第一次光刻：在硅片上生長一層二氧化硅，然后在硅片正面旋涂一層光刻膠，將針孔圖形掩膜版放置在光刻膠上進行紫外線曝光，使用顯影液顯影，得到針孔圖形，使用刻蝕機刻蝕氧化層；
(2)硅片正面刻蝕針孔：采用兩步刻蝕工藝在硅片正面刻蝕針孔，刻蝕深度為硅片厚度的一半；
(3)第二次光刻：在硅片背面進行光刻得到針孔圖形，并使用刻蝕機刻蝕二氧化硅層；
(4)硅片背面刻蝕針孔：采用兩步刻蝕工藝在硅片背面刻蝕針孔使其完全刻穿；
(5)第三次光刻：在硅片正面使用針尖圖形掩膜版光刻得到腐蝕針尖的正方形掩膜圖形；
(6)濕法腐蝕：光刻完成后，去除氧化層，然后去除光刻膠，放入40％KOH溶液中濕法腐蝕，直到微針高度為100μm，停止腐蝕，去掉剩余氧化層，得到空心微針陣列。
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