[發明專利]一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置

無效

• 申請號: 201210057182.7
• 申請日: 2012-03-06
• 公開（公告）號: CN102601687A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 王紹治;王君林
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: B24B1/04
• 分類號: B24B1/04
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 南小平

1.一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，該裝置包括主控制器(1)、信號接收與采集模塊(2)、超聲發射模塊(3)、超聲相控陣換能器(4)和裝有拋光液(6)的敞口容器(5)；主控制器(1)發出含有延時的控制信號給超聲發射模塊(3)，超聲發射模塊(3)驅動超聲相控陣換能器(4)產生超聲振動并在待加工件(7)上的待拋光點聚焦，經過待加工件(7)反射回來的聲波再由同一個超聲相控陣換能器(4)接收，超聲相控陣換能器(4)接收的聲波信號經過信號接收與采集模塊(2)處理后傳給主控制器(1)。

2.如權利要求1所述的一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，所述拋光液(6)中的拋光顆粒為氧化硅、氧化鈰、氧化鋁或納米金剛石。

3.如權利要求1所述的一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，所述超聲相控陣換能器(4)與待加工件(7)之間的距離為10mm～2m。

4.如權利要求1所述的一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，所述超聲相控陣換能器(4)發出的頻率為15KHz～20MHz。

5.如權利要求1所述的一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，所述超聲相控陣換能器(4)的下平面與待加工件(7)的表面之間的夾角為0°～90°。

6.如權利要求1所述的一種相控陣超聲聚焦流體振動拋光裝置，其特征在于，所述超聲相控陣換能器(4)為矩形面陣式換能器、圓形面陣式換能器或線陣式換能器。