[發(fā)明專利]復合離子源裝置及質(zhì)譜儀

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210055585.8
• 申請日: 2012-03-05
• 公開（公告）號: CN103295872A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設計）人: 張小華;張華;商穎健;薛孟謙
• 申請（專利權）人: 北京普析通用儀器有限責任公司
• 主分類號: H01J49/10
• 分類號: H01J49/10;H01J49/42
• 代理公司: 隆天國際知識產(chǎn)權代理有限公司 72003
• 代理人: 闞梓瑄;馮志云

1.一種復合離子源裝置，包括：殼體(1)以及安裝在所述殼體(1)內(nèi)的離子化室(2)、離子透鏡和安裝在所述離子化室(2)外的用于產(chǎn)生電子的至少一個燈絲(3)，其中所述離子化室(2)上安裝有樣品進樣管(4)和與所述樣品進樣管(4)對正的樣品出口(25)，所述離子化室(2)分別與所述燈絲(3)相對應的電子入口，所述離子透鏡包括依次安裝在該離子透鏡的中心線上并互相平行的推斥電極(21)、引入電極(22)、聚集電極(23)和引出電極(24)；其特征在于，所述推斥電極(21)安裝在所述離子化室(2)內(nèi)，所述引入電極(22)、聚集電極(23)和引出電極(24)安裝在所述離子化室(2)外，所述復合離子源裝置還包括至少一個用于產(chǎn)生紫外光的紫外光源(5)，所述離子化室(2)上具有至少一個位于所述推斥電極(21)和引入電極(22)之間的透光孔(26)，每個所述透光孔(26)與相應的所述紫外光源(5)照射位置相對應，在每個所述紫外光源(5)的照射光路上并鄰近所述透光孔(26)位置安裝一個聚焦透鏡(6)。

2.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述燈絲(3)的數(shù)量為兩個，分布在所述離子化室(2)的兩相對側，所述兩個燈絲(3)中心的連線與所述離子透鏡的中心線垂直。

3.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述紫外光源(5)的數(shù)量為兩個，分布在所述離子化室(2)的兩相對側，所述兩個紫外光源(5)中心的連線與所述離子透鏡的中心線垂直。

4.如權利要求2所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述紫外光源(5)的數(shù)量為兩個，分布在所述離子化室(2)的兩相對側，所述兩個紫外光源(5)中心的連線與所述樣品進樣管(4)垂直，并且所述兩個紫外光源(5)的中心的連線與所述兩個燈絲(3)的中心的連線互相垂直。

5.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述聚焦透鏡(6)安裝在所述透光孔(26)內(nèi)。

6.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述離子化室(2)的內(nèi)表面呈圓滑過渡的曲面形狀。

7.如權利要求6所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述離子化室(2)的內(nèi)表面呈球形。

8.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述聚焦透鏡(6)的焦點位于所述離子透鏡的中心線上。

9.如權利要求1所述的復合離子源裝置，其特征在于，所述離子化室(2)的內(nèi)壁設有反光涂層，所述推斥電極(21)外表面設有反光涂層。

10.一種質(zhì)譜儀，包括四極桿質(zhì)量分析器和復合離子源裝置，其特征在于，所述復合離子源裝置是如權利要求1-9之任一項所述的復合離子源裝置。