[發明專利]紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法有效
| 申請號: | 201210053699.9 | 申請日: | 2012-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN103286694A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 宋孝宗;龔俊;楊東亞;段紅燕;王繼波 | 申請(專利權)人: | 蘭州理工大學 |
| 主分類號: | B24C1/00 | 分類號: | B24C1/00 |
| 代理公司: | 蘭州振華專利代理有限責任公司 62102 | 代理人: | 董斌 |
| 地址: | 730050 *** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紫外 光誘導 納米 顆粒 膠體 射流 進行 光滑 表面 加工 方法 | ||
1.紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其步驟為:
(1)選用波長在200-400nm的紫外光作為反應激勵光源;
(2)按特定成分及組分配制所需的納米顆粒膠體,開啟增壓裝置,對所配制的納米顆粒膠體進行加壓;
(3)打開紫外光源,調節紫外光聚焦系統,使紫外光束以平行光通過光-液耦合噴嘴后按所需光斑直徑聚焦于光-液耦合噴嘴的噴嘴口。
(4)開啟控制開關,使納米顆粒膠體進入光-液耦合噴嘴內,與通過光-液耦合噴嘴的紫外光束發生光-液耦合;
(5)紫外光束耦合膠體射流束作用在工件表面,與工件表面發生光催化界面反應,控制工件運動,實現脆硬材料工件的超光滑表面加工。
2.根據權利要求1所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的紫外光源為低壓、中亞、高壓汞燈或其他發射紫外光波段的設備,紫外光的波長在200-400nm的范圍內。
3.根據權利要求2所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的紫外光束光斑可調直徑范圍為0.1~2mm,紫外光束中心輻照強度在0.01-100mW/cm2。
4.根據權利要求1所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的納米顆粒膠體由質量分數在0.5~25%的納米顆粒、74~99%的去離子水、0.1~0.25%的pH值調節劑、0.25~0.5%的表面活性劑配制而成,其中所述的納米顆粒的粒徑在10nm-40nm范圍。
5.根據權利要求4所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的納米顆粒膠體的密度在1.01~1.50×103kg/m3范圍內,其動力粘度在0.002~0.025N·s/m2范圍內、pH值在6~11范圍內。
6.根據權利要求4所述的納米顆粒膠體的配制成分及組分,其特征在于所述的納米顆粒為無機納米顆粒。
7.根據權利要求6所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工?的方法,其特征在于所述的無機納米顆粒為納米二氧化鈦顆粒、納米二氧化硅顆粒、納米氧化鈰顆粒、納米氧化鋁顆粒以及上述無機納米顆粒間的配對組合。
8.根據權利要求4所述的納米顆粒膠體的配制成分及組分,其特征在于所述的pH值調節劑為碳酸鉀,氫氧化鈉等。
9.根據權利要求4所述的納米顆粒膠體的配制成分及組分,其特征在于所述的表面活性劑為兩性離子表面活性劑氨基酸型R-NH+2-CH2CH2COO-。
10.根據權利要求1所述的紫外光誘導納米顆粒膠體射流進行超光滑表面加工的方法,其特征在于所述的壓力發生裝置的壓力可調范圍為0.1-20MPa,納米顆粒膠體射流經過直徑為0.1-2mm的光-液耦合噴嘴后其速度分布范圍為2-150m/s。?
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