[發明專利]一種超快出光的化學鍍鎳溶液無效
| 申請號: | 201210052602.2 | 申請日: | 2012-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN102534581A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 何禮鑫 | 申請(專利權)人: | 恩森(臺州)化學有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/36 | 分類號: | C23C18/36 |
| 代理公司: | 臺州市中唯專利事務所 33215 | 代理人: | 潘浙軍 |
| 地址: | 318020 浙江省臺州*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 超快出光 化學 溶液 | ||
技術領域
本發明涉及一種化學鍍鎳溶液,特別是一種超快出光的化學鍍鎳溶液。
背景技術
化學鍍鎳又可稱為無電解鍍鎳,是在含鎳鹽、還原劑及其它輔助成分的溶液中依靠自催化的化學反應于金屬表面沉積鎳、鎳基合金鍍層的表面處理技術。以上工藝獲得的鍍層具有硬度較高、耐蝕性好、耐磨、鍍層厚度均勻等優點,已經在電子、機械、化工、采礦、醫療等諸多領域得到廣泛應用。
在過去的數十年時間里,化學鍍鎳技術有了很大突破,其長期存在的一些問題,如鍍液壽命、穩定性等得到了初步解決,基本實現了鍍液的自動控制,使連續化的大型生產有了可能,化學鍍鎳的應用范圍和規模進一步擴大。
其中,鋁制散熱器行業是化學鍍鎳技術應用最為廣泛的行業之一,鋁制散熱器對化學鍍鎳層的要求不在于鍍層的厚度和耐蝕性,而在于鍍層的光亮和可焊性,換言之,鋁制散熱器要求所采用的化學鍍鎳工藝必須在不大于3分鐘的時間內獲得光亮的、具有一定可焊性的化學鍍鎳層。而現有相對成熟的以重金屬鉛、鎘作為穩定劑和光亮劑的化學鍍鎳工藝已經不能滿足人們的要求,無法滿足產品技術要求及環境排放要求。
發明內容
針對上述問題,本發明設計了一種超快出光的化學鍍鎳溶液,其獲得光亮化學鍍鎳層的時間特別短,可在小于3分鐘的時間內產生全光亮的鎳鍍層,特別適用于化學鎳層厚度不大于2um的產品。
為實現上述目的,本發明采用以下技術方案:
一種超快出光的化學鍍鎳溶液,包括鎳鹽、穩定劑和光亮劑,其特征在于:所述光亮劑采用二氧化碲。
進一步地,上述二氧化碲在溶液中的含量為0.01-50mg/L。
進一步地,上述鎳鹽為硫酸鎳,其在溶液中的含量為18-35g/L。
進一步地,所述穩定劑包括有多種成分,各成分在溶液中的含量為:
次磷酸鈉????????????????????16-37g/L
檸檬酸??????????????????????2.5-8g/L
乳酸????????????????????????12-70?g/L
丙酸????????????????????????5-40?g/L
蘋果酸??????????????????????2-10?g/L
丁二酸??????????????????????2-8?g/L
3-硫-異硫脲丙磺酸內鹽???????0.01-40mg/L
碘酸鉀?????????????????????0.1-60mg/L
酒石酸銻鉀?????????????????0?-40mg/L
鉬酸銨?????????????????????0-35mg/L
硫代硫酸鈉?????????????????0-20mg/L
硫氰酸鈉(鉀)?????????????0-45mg/L
鉬酸銨?????????????????????0-44mg/L
硫脲???????????????????????0-80mg/L
尿素???????????????????????0-65mg/L
巰基苯并吡啶???????????????0-100mg/L
進一步地,上述溶液中包含濕潤劑十二烷基磺酸鈉,其在溶液中的含量為0-200mg/L。
進一步地,上述鍍鎳溶液的PH值為4.2~5.2。
進一步地,上述鍍鎳溶液使用時的溫度控制在80~95℃。
本發明溶液采用硫酸鎳作為鎳鹽,二氧化碲作為光亮劑,同時添加多種成分的穩定劑及作為濕潤劑的十二烷基磺酸鈉。
本溶液適用于化學鎳層厚度不大于2um的產品,其特點在于獲得光亮的化學鍍鎳層的時間特別短,可在小于3min的時間內在鋁制散熱器表面產生全光亮的鎳鍍層。
具體實施方式
實例1,鍍鎳溶液中的各組分含量如下:
硫酸鎳?????????????????5?g/L
次磷酸鈉???????????????30?g/L
檸檬酸?????????????????5?g/L
乳酸???????????????????35?g/L
丙酸???????????????????25?g/L
蘋果酸?????????????????4.5?g/L
丁二酸?????????????????4?g/L
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
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