[發明專利]鍍膜修正板

無效

• 申請號: 201210052213.X
• 申請日: 2012-03-02
• 公開（公告）號: CN103290384A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 裴紹凱
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種光學鍍膜裝置，尤其涉及一種鍍膜修正板。

背景技術

目前，光學薄膜廣泛應用于光學儀器，如傳感器，半導體激光，干涉儀等很多領域。現在，光學薄膜制造通常是以物理蒸鍍法（Physics?vapor?deposition,簡稱PVD）為主，該方法為將薄膜材料有固態轉化為氣態或離子態，氣態惑離子態的材料由蒸發源穿越空間，抵達被鍍基材表面后，在基材表面沉積而逐漸形成薄膜。

現有的光學鍍膜通常于高真空環境下完成，鍍膜設備通常包括一蒸鍍源、一設置于蒸鍍源上方用來承載被鍍基材的鍍膜傘架及蒸鍍源和鍍膜傘架之間的鍍膜修正板。鍍膜時，鍍膜傘架以一定速度轉動以使分布在鍍膜傘架各處的被鍍基材的膜厚均勻。?但受限于鍍膜傘架形狀固定，鍍膜傘架各圈層的被鍍基材相對蒸鍍源的位置不同，接觸的蒸發物的濃度有所不同，會導致鍍膜傘架上各圈層被鍍基材的膜厚不均勻，為保證鍍膜傘架上每一圈層被鍍基材上膜厚均勻，則需要使用修正板來調整鍍膜傘架上每圈鍍膜的均勻性，例如，若是鍍膜傘架上最外圈層的被鍍基材的鍍膜偏厚，就會用鋁箔紙將修正板對應于鍍膜傘架上最外圈層被鍍基材的部分多包一些，使蒸鍍物被擋住的多一些，到達最外層被鍍基材的蒸發物就會少一些，膜層就可以鍍的薄一些。但是由于現有的修正板的形狀是固定的，而用鋁箔紙包裹修正板都是人工操作，由于每個人的手法經驗不同，包裹出來的修正板的形狀會不同，沒有一共同的標準，因此常常需要花很多次來試鍍，浪費時間且增加成本。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種通用性佳，形狀可精確調整的修正板，在將修正板的形狀調整后再用鋁箔紙包裹。

一種鍍膜修正板，其包括一轉軸，多個橫桿、多個調整機構及多對修正片。所述橫桿相對于轉軸對稱地固定于轉軸上，橫桿上設有刻度。所述調整機構，包括一連桿，一旋轉盤及一驅動桿，其中，連桿垂直從轉軸和橫桿交叉處穿過并且能夠相對于轉軸轉動，連桿兩端分別連接旋轉盤和驅動桿。所述修正片設置在橫桿兩邊并且能夠在調整機構的驅動桿的推動下沿橫桿向外滑動。

相較于現有技術，本發明的鍍膜修正板，可通過改變修正片沿橫桿伸展的距離來精確調整修正板的形狀，之后再用鋁箔紙包住修正板，從而保證了人工包裹的后的修正板形狀保持一致，提高了生產效率，降低了不良率，節省了成本。

附圖說明

圖1為本發明一實施例鍍膜修正板的正面及反面示意圖。

圖2為本發明一實施例鍍膜修正板的調整機構示意圖。

圖3為本發明一實施例鍍膜修正板調整后的形狀示意圖。

圖4為本法明一實施例光學鍍膜裝置示意圖。

主要元件符號說明