[發明專利]一種彩膜基板、制作方法及顯示裝置

有效

• 申請號: 201210050523.8
• 申請日: 2012-02-29
• 公開（公告）號: CN102707483A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 陸金波;薛建設;劉宸;徐傳祥;齊永蓮
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種彩膜基板、制作方法及顯示裝置。

背景技術

隨著薄膜晶體管液晶顯示器成本的降低和制造工藝的完善，薄膜晶體管液晶顯示器已成為平板顯示領域的主流產品。

薄膜晶體管液晶顯示器包括陣列基板、彩膜基板以及填充在兩者之間的液晶材料。其中，彩膜基板通常包括基板、具有顏色的子像素(如三基色子像素)、形成于子像素間隙的黑矩陣和形成于黑矩陣上方的柱狀隔墊物。如圖1所示，當柱狀隔墊物a與子像素b之間的間距d較小時，會導致摩擦工藝中對靠近柱狀隔墊物處的子像素對應的取向層摩擦不徹底，從而引起液晶轉向異常，易發生漏光現象。為了避免該漏光現象的發生，只能增大間距d。為了增大間距d，現有制作工藝通常將柱狀隔墊物與黑矩陣連接的一端的橫截面面積縮小，由于現有的柱狀隔墊物通常呈梯形，因此，縮小與黑矩陣連接的一端的橫截面面積，就會使得柱狀隔墊物變細，使柱狀隔墊物的支撐能力降低，從而無法保證盒厚。

發明內容

本發明實施例提供了一種彩膜基板、制作方法及顯示裝置，用以解決現有彩膜基板的柱狀隔墊物在縮小與黑矩陣連接的一端的橫截面面積之后，會降低支撐能力的問題。

本發明實施例提供一種彩膜基板，包括：

基板；

形成于所述基板上的黑矩陣；

形成于所述黑矩陣的上方的柱狀隔墊物，兩端的橫截面面積小于所述兩端之間部分的橫截面面積。

其中，所述柱狀隔墊物與所述黑矩陣一體成型。

所述的彩膜基板，還包括：

形成于所述基板上的子像素。

本發明實施例提供一種彩膜基板的制作方法，包括：

在基板上形成黑矩陣和柱狀隔墊物；

其中，所述柱狀隔墊物位于所述黑矩陣的上方，所述柱狀隔墊物的兩端的橫截面面積小于所述兩端之間部分的橫截面面積。

其中，所述柱狀隔墊物與所述黑矩陣一體成型。

所述在基板上形成黑矩陣和柱狀隔墊物，具體為：

在基板上沉積黑矩陣材料層，通過構圖工藝在所述基板上形成黑矩陣圖形；

通過成像顯影灰化工藝，形成黑矩陣和與所述黑矩陣一體的初始柱狀隔墊物，所述初始柱狀隔墊物位于所述黑矩陣的上方；

通過倒梯形光刻膠制作工藝，將所述初始柱狀隔墊物處理成倒梯形柱狀隔墊物，所述倒梯形柱狀隔墊物與所述黑矩陣連接的一端的橫截面面積小于懸空端的橫截面面積；

通過成像顯影灰化工藝，將所述倒梯形柱狀隔墊物處理成所述柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物的兩端的橫截面面積小于所述兩端之間部分的橫截面面積。

其中，所述黑矩陣材料層為具有抗壓能力的正性黑矩陣用光阻劑層。

此時，所述通過成像顯影灰化工藝，形成黑矩陣和與所述黑矩陣一體的初始柱狀隔墊物，所述初始柱狀隔墊物位于所述黑矩陣的上方，具體為：

采用具有遮光部和灰色調部的第一灰色調掩模版進行掩模、曝光、顯影和灰化工藝，使所述黑矩陣圖形對應初始柱狀隔墊物區域的部分被全部保留以形成所述初始柱狀隔墊物，使所述黑矩陣圖形的其它部分被部分保留以形成所述黑矩陣。

所述通過成像顯影灰化工藝，將所述倒梯形柱狀隔墊物處理成所述柱狀隔墊物，具體為：

采用具有遮光部和灰色調部的第二灰色調掩模版進行掩模、曝光、顯影和灰化工藝，使所述倒梯形柱狀隔墊物的懸空端與中間之間的部分的邊緣被去除以形成所述柱狀隔墊物。

所述的制作方法，還包括：

在所述基板上形成子像素。

本發明實施例提供的技術方案中，在為了增大柱狀隔墊物與子像素之間的間距，而將柱狀隔墊物與黑矩陣連接的一端的橫截面面積設計為較小時，柱狀隔墊物不易發生斷裂，支撐能力較大，能保證盒厚。

附圖說明

圖1為現有彩膜基板的結構示意圖；

圖2為本發明實施例中一種彩膜基板的結構示意圖；

圖3為本發明實施例中另一種彩膜基板的結構示意圖；

圖4為本發明實施例中彩膜基板的制作方法的流程圖；

圖5為本發明實施例中步驟S401對應的結構示意圖；

圖6為本發明實施例中步驟S402對應的結構示意圖；

圖7為本發明實施例中步驟S403對應的結構示意圖。

具體實施方式

為使本發明實施例要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。

如圖2所示，本發明實施例提供了一種彩膜基板，包括：

基板1；