[發明專利]表面波等離子體產生用天線及表面波等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201210050402.3
• 申請日: 2012-02-29
• 公開（公告）號: CN102655708A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發明（設計）人: 池田太郎;河西繁;長田勇輝
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46;H01J37/32
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;舒艷君

1.一種表面波等離子體產生用天線，其將從微波輸出部通過由外側導體與內側導體構成的同軸狀的波導傳輸來的微波放射到腔室內，在腔室內產生表面波等離子體，其特征在于，

該表面波等離子體產生用天線呈平面狀，并且多個縫隙被形成為圓周狀，并且在圓周方向上鄰接的縫隙與縫隙的相接部分被縫隙包圍。

2.根據權利要求1所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述鄰接的縫隙與縫隙在其相接部分在徑向上重疊。

3.根據權利要求2所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述縫隙具有中央部和從該中央部向兩側延伸的第1端部以及第2端部，鄰接的縫隙中的一方的第1端部與另一方的第2端部在徑向上重疊。

4.根據權利要求3所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述中央部、上述第1端部以及上述第2端部實質上具有相同的長度。

5.根據權利要求3或者4所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述縫隙的上述中央部具有規定寬度，上述第1端部以及上述第2端部具有上述中央部的寬度的一半以下的寬度，上述第1端部與上述第2端部重疊的部分具有與上述中央部相同的寬度，上述多個縫隙的所在區域形成為圓環狀。

6.根據權利要求3或者4所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述縫隙形成細長的形狀，上述多個縫隙設置成被包圍在圓環區域內，上述第1端部形成在鄰接的縫隙的第2端部的外側，上述第2端部形成在鄰接的縫隙的第1端部的內側，上述中央部被設置成從外側的第1端部朝向內側的第2端部，從上述圓環區域的外側部分開始傾斜地橫切內側部分。

7.根據權利要求1所述的表面波等離子體產生用天線，其特征在于，

上述多個縫隙被設置成，由圓周狀地形成了多個的外側圓弧狀縫隙和在其內側圓周狀地形成了多個的內側圓弧狀縫隙構成，且上述外側圓弧狀縫隙彼此間的相接部分與上述內側圓弧狀縫隙彼此間的相接部分在徑向上不重疊。

8.一種表面波等離子體處理裝置，其特征在于，

具有：腔室，其收容被處理基板；

氣體供給機構，其向上述腔室內供給氣體；及

微波等離子體源，該微波等離子體源具有：微波輸出部，其生成并輸出微波，并具有微波電源；及微波導入機構，其將輸出的微波導入到上述腔室內，該微波等離子體源通過將微波導入到上述腔室內，使供給到上述腔室內的氣體產生表面波等離子體，

上述微波導入機構具有：同軸狀的波導，其由外側導體與內側導體構成；和表面波等離子體產生用天線，其用于將經由波導傳輸來的微波放射到腔室內，作為上述表面波等離子體產生用天線，使用權利要求1至權利要求7中任意一項所述的表面波等離子體產生用天線。

9.根據權利要求8所述的表面波等離子體處理裝置，其特征在于，

上述微波導入機構還具有調諧器，該調諧器被設置于上述波導，用于使上述腔室內的負載的阻抗與上述微波電源的特性阻抗匹配。

10.根據權利要求8或者9所述的表面波等離子體處理裝置，其特征在于，

具有多個上述微波導入機構。