[發明專利]一種高分子基復合結構漫反射材料無效
| 申請號： | 201210050013.0 | 申請日： | 2012-02-29 |
| 公開（公告）號： | CN102590906A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發明（設計）人： | 劉穎;計紅艷;吳大鳴;鄭秀婷;趙忠里;許紅;何曉祥;羅祎瑋;姜輝 | 申請（專利權）人： | 北京化工大學 |
| 主分類號： | G02B5/02 | 分類號： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人： | 劉萍 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高分子 復合 結構 漫反射 材料 | ||
【權利要求書】：
1.一種高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于：所述的漫反射材料包括具有微結構表層材料、單層或多層中間材料、反射層材料。
2.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于：該表面微結構是指具有線性或非線性幾何特征微透鏡陣列。
3.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于：該表面微結構是微槽型、球型、橢球型、多邊形、拋物面、雙曲面或者其組合。
4.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于：該表面微結構的特征尺寸為0.1微米到1000微米。
5.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于該反射層是鋁、鉻、銅、鎳、錫、銀及其合金或高分子基復合材料。
6.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于對光線起擴散作用的表層及中間層是透明、半透明高分子材料或者其共混物、或含有機或無機分散相的高分子基復合材料。
7.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于通過鍍膜、共擠出、共注射、層壓或粘合方法將各層材料復合，具有微結構表層材料通過擠出微壓印、微結構注射或微結構模壓方法制備。
8.如權利要求1所述的高分子基復合結構漫反射材料，其特征在于所述的漫反射材料還包括與反射層材料相鄰的底層材料。
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