[發明專利]激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法、凸版印刷版原版、凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版

無效

• 申請號: 201210049995.1
• 申請日: 2012-02-29
• 公開（公告）號: CN102653193A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發明（設計）人: 菅崎敦司
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B41N1/12
• 分類號: B41N1/12;B41C1/05
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 雒運樸

1.一種激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

形成由激光雕刻用樹脂組合物構成的凸版形成層的層形成工序，所述激光雕刻用樹脂組合物含有(成分A)異氰酸基的平均數fn大于2的異氰酸酯化合物及(成分B)分子中具有硅氧烷鍵且具有2個以上活性氫的化合物；以及，

在熱的作用下使所述凸版形成層交聯，獲得具有交聯凸版形成層的凸版印刷版原版的交聯工序。

2.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述激光雕刻用樹脂組合物還含有(成分C)在分子中不含硅氧烷鍵且具有2個以上活性氫的化合物。

3.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述激光雕刻用樹脂組合物還含有(成分D)自由基聚合性化合物，及(成分E)自由基聚合引發劑。

4.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述激光雕刻用樹脂組合物還含有(成分F)可吸收700～1300nm波長的光的光熱轉換劑。

5.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述激光雕刻用樹脂組合物還含有(成分G)增塑劑。

6.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述激光雕刻用樹脂組合物還含有(成分H)具有水解性甲硅烷基及/或硅烷醇基的化合物。

7.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分A的異氰酸基的平均數fn為2.2以上3.8以下。

8.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分B是兩末端改性硅氧烷油及/或單末端改性硅氧烷油。

9.根據權利要求1所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分B選自兩末端甲醇改性硅氧烷油、兩末端氨基改性硅氧烷油及單末端二醇改性硅氧烷油。

10.根據權利要求3所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分D是多官能烯性不飽和化合物。

11.根據權利要求3所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分E是有機過氧化物。

12.根據權利要求4所述的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其中，所述成分F是炭黑。

13.一種激光雕刻用凸版印刷版原版，其通過權利要求1～12中任一項所述的制造方法獲得。

14.一種凸版印刷版的制版方法，其特征在于，包括對權利要求13所述的凸版印刷版原版進行激光雕刻、形成凸版層的彫刻工序.

15.一種凸版印刷版，其具有通過權利要求14所述的制版方法制得的凸版層。

16.根據權利要求15所述的凸版印刷版，其中，所述凸版層的厚度為0.05mm以上10mm以下。

17.根據權利要求15或16所述的凸版印刷版，其中，所述凸版層的肖氏A硬度為50°以上90°以下。