[發(fā)明專利]一種先進過程控制系統(tǒng)及其測試方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210048437.3
• 申請日: 2012-02-28
• 公開（公告）號: CN102540895A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 方晶晶;陳嵐;阮文彪
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號: G05B13/04
• 分類號: G05B13/04;G05B23/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，與虛擬制造系統(tǒng)相連接，包括：

實時錯誤檢測模塊，與虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)采集模塊相連接，用于從虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)采集模塊獲取虛擬工藝制造過程中的產(chǎn)品性能參數(shù)，并比照預(yù)設(shè)的產(chǎn)品性能參數(shù)，對虛擬工藝制造過程中產(chǎn)品性能參數(shù)進行錯誤檢測；

錯誤分類與響應(yīng)模塊，與所述實時錯誤檢測模塊相連接，用于針對檢測出的錯誤進行分類，并查找產(chǎn)生該錯誤的原因；

反饋/回饋控制模塊，與所述錯誤分類與響應(yīng)模塊相連接，用于根據(jù)產(chǎn)生錯誤的原因，調(diào)用相應(yīng)的校正模型對該錯誤相關(guān)的工藝/設(shè)備參數(shù)進行校正，得到校正后的工藝設(shè)備參數(shù)，并將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的過程控制模塊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，

所述反饋/回饋控制模塊，還用于將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)通過實時控制模塊發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫模塊進行存儲。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，

反饋/回饋控制模塊，與虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫模塊相連接，用于從虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫模塊獲得設(shè)備工藝設(shè)備參數(shù)調(diào)整前后半導(dǎo)體晶片的產(chǎn)品性能參數(shù)，判斷半導(dǎo)體晶片的性能改善是否達到預(yù)期效果，在未達到預(yù)期效果時，對校正模型進行調(diào)整，根據(jù)調(diào)整后的校正模型重新對工藝設(shè)備參數(shù)進行校正。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述反饋/回饋控制模塊包括：

參數(shù)調(diào)整子模塊，用于對所述校正模型的參數(shù)進行調(diào)整；或

模型調(diào)整子模塊，用于更換所述校正模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，所述校正模型選自以下模型中的一種：MMSE控制方法、PID控制方法和混沌優(yōu)化算法。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的先進過程控制系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

實時控制模塊，用于所述先進過程控制系統(tǒng)和所述虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)交互。

7.一種先進過程控制系統(tǒng)的測試方法，其特征在于，所述先進過程控制系統(tǒng)與虛擬制造系統(tǒng)相連接，包括：

從虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)采集模塊獲取虛擬工藝制造過程中的產(chǎn)品性能參數(shù)，并比照預(yù)設(shè)的產(chǎn)品性能參數(shù)，對虛擬工藝制造過程中產(chǎn)品性能參數(shù)進行錯誤檢測；

針對檢測出的錯誤進行分類，并查找產(chǎn)生該錯誤的原因；

根據(jù)產(chǎn)生所述錯誤的原因，調(diào)用相應(yīng)的校正模型對該錯誤相關(guān)的工藝設(shè)備參數(shù)進行校正，并將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的過程控制模塊，從而完成所述先進過程控制系統(tǒng)的驗證測試。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的先進過程控制系統(tǒng)測試方法，其特征在于，所述將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的過程控制模塊的同時還包括：

將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)通過實時控制模塊發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫模塊存儲。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的先進過程控制系統(tǒng)測試方法，其特征在于，所述將校正后的工藝設(shè)備參數(shù)發(fā)送至虛擬制造系統(tǒng)的過程控制模塊之后還包括：

從虛擬制造系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫模塊獲得設(shè)備工藝設(shè)備參數(shù)調(diào)整前后半導(dǎo)體晶片的產(chǎn)品性能參數(shù)，判斷半導(dǎo)體晶片的性能改善是否達到預(yù)期效果，在未達到預(yù)期效果時，對校正模型進行調(diào)整，根據(jù)調(diào)整后的校正模型重新對工藝設(shè)備參數(shù)進行校正。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的先進過程控制系統(tǒng)測試方法，其特征在于，所述對校正模型進行調(diào)整包括：

對所述校正模型的參數(shù)進行調(diào)整；或更換所述校正模型。