[發明專利]交叉滾針導軌副有效
| 申請號： | 201210047739.9 | 申請日： | 2012-02-28 |
| 公開（公告）號： | CN102593022A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發明（設計）人： | 陳文;付江波 | 申請（專利權）人： | 北京中電科電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/60 | 分類號： | H01L21/60 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 許靜;安利霞 |
| 地址： | 100176 北京市北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 交叉 導軌 | ||
1.一種交叉滾針導軌副，其特征在于：包括：
第一導軌；
第二導軌，其高度低于所述第一導軌的高度，且所述第二導軌沿所述第一導軌軸向運動；
滾針，設置在所述第一導軌和所述第二導軌接觸面之間。
2.根據權利要求1所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：還包括用于安裝所述滾針的保持架，所述第二導軌通過所述滾針可沿著所述第一導軌軸向運動。
3.根據權利要求2所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述滾針的一端與所述第一導軌接觸，另一端與所述第二導軌接觸；或者，
所述滾針分別設置在所述保持架與所述第一導軌接觸面之間、所述保持架與第二導軌接觸面之間。
4.根據權利要求2所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述第一導軌上設有V型槽，所述第二導軌上設有與所述V型槽相適配的凸起。
5.根據權利要求4所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述保持架為與所述第一導軌的V型槽、第二導軌的凸起相適配的V型結構。
6.根據權利要求4或5所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述V型槽的角度為90度。
7.根據權利要求2所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述保持架上設有用于設置所述滾針的凹槽或通孔。
8.根據權利要求7所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述凹槽或通孔與所述滾針之間具有用于容納潤滑脂的間隙。
9.根據權利要求7或8所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述保持架采用塑料注塑成型。
10.根據權利要求7或8所述的交叉滾針導軌副，其特征在于：所述保持架采用鋁合金、鋼、銅或銅合金制成。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
