[發(fā)明專利]一種監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210047368.4
• 申請日: 2012-02-28
• 公開（公告）號: CN102566321A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 唐在峰;張旭升;呂煜坤;方超
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

1.一種監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，包括以下步驟：

確定出光刻機(jī)正常狀況下光譜曲線的狀況，得到參考光譜曲線，并根據(jù)該情況建立量測程式；

在滿足晶圓的曝光條件隨著光刻機(jī)焦距而變化的前提下，再曝光一片第一晶圓；

依據(jù)已經(jīng)建立的量測程式測出滿足上述曝光條件下的第一晶圓，得到實(shí)際量測光譜曲線；

確定一警報點(diǎn)分?jǐn)?shù)；

把警報點(diǎn)分?jǐn)?shù)輸入到已經(jīng)建立的量測程式中；

用已經(jīng)建立的量測程式來監(jiān)測光刻機(jī)的焦距偏移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，所述的確定出光刻機(jī)正常狀況下光譜曲線的狀況，并根據(jù)該情況建立量測程式，具體包括下列步驟：

在光刻機(jī)正常工作的條件下曝一片第二晶圓；

依據(jù)第二晶圓建立的量測程式并且確定參考光譜曲線。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，所述的警報點(diǎn)分?jǐn)?shù)是相似程度分?jǐn)?shù)值隨著焦距而變化的曲線的下限。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，所述的相似程度分?jǐn)?shù)值的公式是：

???其中s代表光學(xué)測量儀相似度值，N代表一顆光譜光譜的單位數(shù)量，代表實(shí)際量測光強(qiáng)，代表理論計算光強(qiáng)，代表波長，p代表修正指數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，所述的相似程度分?jǐn)?shù)值是隨著光刻機(jī)焦距變化與形成的測量光譜曲線與參考光譜曲線之間的相似程度分?jǐn)?shù)值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測光刻機(jī)焦距偏移的方法，其特征在于，依據(jù)所述的相似程度分?jǐn)?shù)值小于所述的警報點(diǎn)判斷光刻機(jī)焦距狀態(tài)有偏移。